[发明专利]彩膜基板、显示面板、显示装置及其制作方法

权利要求书

1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

在衬底基板上形成黑矩阵；

通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物；

其中，所述隔垫物形成在所述黑矩阵上；多个所述隔垫物包括两种高度；所述隔垫物包括第一部分和设置在所述第一部分上的第二部分；所述第一部分与绿色阻单元同层形成且材质相同；所述第二部分与蓝色阻层单元同层且材质相同。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物包括：

通过多次构图工艺形成色阻层，并在所述多次构图工艺中通过半曝光工艺形成所述多个隔垫物。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物包括：

在由所述黑矩阵划分的阵列区域内形成色阻层；

在形成所述色阻层的同时在所述黑矩阵上形成所述多个隔垫物。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物包括：

在由所述黑矩阵划分的阵列区域内以及所述黑矩阵表面形成色阻层，所述色阻层覆盖所述黑矩阵；

在所述色阻层上形成所述多个隔垫物，所述多个隔垫物在所述色阻层上的正投影位于所述黑矩阵上。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述色阻层包括阵列排布的第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元，所述隔垫物至少包括第一部分；

所述通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物包括：

通过三次构图工艺形成对应的所述第一色阻单元、所述第二色阻单元和所述第三色阻单元；

在形成所述第一色阻单元、所述第二色阻单元和所述第三色阻单元中的一个时，同层形成所述隔垫物的所述第一部分。

6.一种根据权利要求1-5任一项所述的制作方法制作的彩膜基板，其特征在于，包括衬底基板，以及形成在所述衬底基板上的黑矩阵、色阻层和多个隔垫物，所述多个隔垫物是在通过多次构图工艺形成所述色阻层时同时形成的。

7.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻层覆盖所述黑矩阵，所述隔垫物形成在所述色阻层上，所述隔垫物在所述色阻层上的正投影位于所述黑矩阵上。

8.根据权利要求6或7所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻层包括阵列排布的第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元；

所述隔垫物至少包括第一部分，所述第一部分与所述第一色阻单元、第二色阻单元、第三色阻单元中的一个同层形成且材质相同。

9.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求6-8任一项所述的彩膜基板。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的显示面板。