[发明专利]COA基板及COA基板色阻层膜厚检测方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种显示面板技术，特别是一种COA基板及COA基板色阻层膜厚检测方法。

背景技术

目前由于尺寸较大的基板(例如49英寸)的利用率较高，但是由于在进行RGB(红绿蓝)色阻涂布时，涂布机台的涂布限制，导致基板的子基板单元有部分在涂布机台的成膜保证区以外，使得基板位于边缘色阻层的膜厚不稳定，导致成品易出现黑阶黑带及黑阶色偏品质分险作为良率考量，RGB各层色阻生产过程中需要通过监控涂布不稳定区，目前只能通过人工对色阻层涂布的膜厚状况适时调整参数进行生产，在COA技术中(Color-filter on Array，是将彩色滤光片与阵列(Array)基板集成在一起的其中一种集成技术，即将彩色光阻涂布于已完成的阵列(Array)上形成彩色滤光层，可以改善传统彩色滤光片开口率低的问题)，因COA基板产品因基板(Strip)设计，B(蓝)色阻的膜厚需基于G(绿)色阻进行量测(R(红)/G(绿)色阻的膜厚基钝化层(PV1)进行量测)，根据现有状况，B色阻的膜厚叠加G色阻的膜厚所产生的不稳定性因素，导致无法真实反映B色阻的涂布状况，目前还无有效监控手段适时调整参数导致良率降低(边缘膜品良率不可控)无法生产。

发明内容

为克服现有技术的不足，本发明提供一种COA基板及COA基板色阻层膜厚检测方法，从而实现对色阻层的膜厚进行监控，提高产品的良率。

本发明提供了一种COA基板，包括多个阵列排布在基板上的子基板单元，所述子基板单元具有显示区和环绕在显示区外的非显示区，所述子基板单元包括阵列基板以及依次形成在阵列基板上的钝化层、色阻层，所述基板上设有量测区域，量测区域位于子基板单元的非显示区中，所述量测区域中设有量测结构，量测区域将量测结构裸露，所述量测结构包括量测钝化层以及量测色阻层，所述量测结构的表面形成量测面。

进一步地，所述量测面包括量测色阻层背离量测钝化层一侧表面的第一量测面、量测钝化层背离阵列基板一侧表面的第二量测面，通过以第二量测面为基准，测量量测色阻层的第一量测面到第二量测面的厚度，从而获得量测色阻层23的厚度。

进一步地，所述量测色阻层包括量测蓝子色阻、量测绿子色阻和量测红子色阻中的至少一种。

进一步地，所述量测色阻层为量测蓝子色阻。

进一步地，所述量测区域与其所在基板相同一侧的边缘平行。

本发明还提供了一种COA基板色阻层膜厚检测方法，包括如下步骤：

提供一COA基板，包括多个阵列排布在基板上的子基板单元，所述子基板单元具有显示区和环绕在显示区外的非显示区，所述子基板单元包括阵列基板以及依次形成在阵列基板上的钝化层、色阻层，所述基板上设有量测区域，量测区域位于每个子基板单元的非显示区中，所述量测区域中设有量测结构，量测区域将量测结构裸露，所述量测结构包括量测钝化层以及量测色阻层，所述量测结构的表面形成量测面；

通过将膜厚量测探针接触量测面，并沿量测区域的长度方向移动，同时保持膜厚量测探针与量测面接触，从而量测获得量测色阻层的厚度。

进一步地，所述量测面包括量测色阻层背离量测钝化层一侧表面的第一量测面、量测钝化层背离阵列基板一侧表面的第二量测面，通过以第二量测面为基准，测量量测色阻层的第一量测面到第二量测面的厚度，从而获得量测色阻层的厚度。

进一步地，所述量测色阻层包括量测蓝子色阻、量测绿子色阻和量测红子色阻中的至少一种。

进一步地，所述量测色阻层为量测蓝子色阻。

进一步地，所述量测区域与其所在基板相同一侧的边缘平行。

本发明与现有技术相比，通过在基板的子基板单元的非显示区处设置量测区域以及量测结构，实现可实时对基板靠近边缘位置的色阻层的膜厚状况进行量测，尤其是蓝色阻的膜厚状况进行监控，从而根据监控结果调整涂布等参数，提高产品的良率。

附图说明

图1是本发明COA基板的俯视图；

图2是本发明对色阻层膜厚量测的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细说明。

本发明中，根据目前色阻层涂布限制，一般涂布机的涂布不稳定区域5通常出现在基板1的其中两相对的靠近边缘位置处，该涂布不稳定区域5在子基板单元的显示区以及非显示区6中，为了能够对该涂布不稳定区域的色阻层的膜厚进行监控，在子基板单元的非显示区6中设置量测区域，通过对量测区域中的量测结构进行量测，实现对基板靠近边缘的涂布不稳定区的膜厚变化进行监控，实时调整涂布参数。