[发明专利]一种纹理结构、光学薄膜、模具及电子设备盖板

权利要求书

1.一种纹理结构，其特征在于，其包括分布的复数小短线，所述复数小短线凸起和/或凹陷设置，相邻所述小短线之间设有间隔，所述间隔形成光学结构；

至少存在两根小短线与水平方向存在夹角a、b，且夹角a不等于夹角b；

所述复数小短线阵列设置，同一排内的小短线偏转设置，且偏转角度变化设置；

所述小短线包括顶平面或底平面，及围绕所述顶平面或底平面的侧面，所述侧面为弧形面，所述间隔通过所述弧形面构成所述光学结构。

2.根据权利要求1所述的一种纹理结构，其特征在于，至少存在两根小短线，其中一根所述小短线相对于另一根所述小短线偏转和/或偏移。

3.根据权利要求2所述的一种纹理结构，其特征在于，所述复数小短线阵列设置，同一排内的所述小短线偏转设置，且偏转角度变大或变小。

4.根据权利要求3所述的一种纹理结构，其特征在于，同一排内至少存在一区域中所述小短线偏转角度为等差变化。

5.根据权利要求4所述的一种纹理结构，其特征在于，同一排内，至少存在一区域中所述小短线的偏转角度从0至180度、从45至90度或从0至270度等差变化。

6.根据权利要求1至5项中任一项所述的一种纹理结构，其特征在于，所述小短线包括顶平面或底平面，及围绕所述顶平面或底平面的侧面，所述侧面为弧形面。

7.根据权利要求6所述的一种纹理结构，其特征在于，所述顶平面或底平面为三角形、四边形、圆形或多边形。

8.根据权利要求6所述的一种纹理结构，其特征在于，相邻两个所述小短线的弧形面连接形成所述间隔。

9.根据权利要求6所述的一种纹理结构，其特征在于，所述小短线的顶平面或底平面为矩形，各小短线自所述矩形两对角线的交叉点偏转。

10.根据权利要求9所述的一种纹理结构，其特征在于，相邻所述小短线的交叉点的距离相等。

11.根据权利要求6所述的这一种纹理结构，其特征在于，所述小短线的顶平面或底平面为矩形，同一排上，所述矩形的长度不变，所述矩形的宽度变化。

12.根据权利要求1至5项中任一项所述的一种纹理结构，其特征在于，所述光学结构呈现至少一条光影亮纹。

13.一种具有如权利要求1至12项中任一项所述的一种纹理结构的光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜包括聚合物层，所述纹理结构形成于所述聚合物层上。

14.根据权利要求13所述的光学薄膜，其特征在于，所述聚合物层为热固化或光固化胶层，所述纹理结构为在热固化或光固化胶层上压印成型的复数小短线和位于所述小短线之间的间隔。

15.根据权利要求14所述的光学薄膜，其特征在于，所述光固化胶层为UV胶层；或者所述光固化胶层为有色UV胶层。

16.根据权利要求15所述的光学薄膜，其特征在于，相邻所述小短线之间的距离为10μm-200μm。

17.根据权利要求13所述的光学薄膜，其特征在于，所述聚合物层包括相对设置的第一侧和第二侧，所述小短线设置于所述第一侧，所述小短线至位于第二侧的表面的距离为0μm-200μm。

18.根据权利要求13所述的光学薄膜，其特征在于，至少存在两根小短线的高度差或深度差大于0.05μm且不大于2μm。