[发明专利]掩模版传输系统及方法、光刻设备及方法

权利要求书

1.一种掩模版传输系统，包括smif版架、版盒以及用于转移掩模版的版叉，所述smif版架包括有若干层L形状的支撑体，所述支撑体包括水平结构的支撑连接部和竖直结构的掩模版支撑部，所述支撑连接部的底端还固定有支撑限位部，所述版盒包括有版盒顶板、版盒侧壁、版盒底板以及有用于支撑所述掩模版的版盒支座，其特征在于，

所述版盒侧壁上还固定有版盒挡板，所述版盒挡板包括水平连接在版盒侧壁的版盒连接部以及竖直连接在版盒连接部端部的版盒限位部，所述版盒侧壁、版盒连接部以及版盒限位部形成H形结构；

所述版叉包括板叉本体和对称连接在板叉本体上的两根叉杆，所述叉杆包括用于支撑掩模版的转移部和防撞部，所述防撞部包括水平结构的第一防撞部和竖直结构的第二防撞部，所述第一防撞部水平连接于所述转移部背离掩模版的一侧，所述第一防撞部连接于所述转移部和所述第二防撞部之间，并且所述第二防撞部、所述第一防撞部以及转移部的侧壁形成一凹槽结构；

当所述版叉从所述smif版架或版盒中取出或放入掩模版的时候，所述支撑限位部或版盒限位部位于所述凹槽结构内。

2.根据权利要求1所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述第一防撞部与所述版盒限位部的底端之间的垂向距离小于掩模版到所述版盒顶板的下表面之间的垂向距离，所述第一防撞部与所述支撑限位部的底端之间的垂向距离小于掩模版与该掩模版上方的支撑连接部的下表面之间的垂向距离，所述第二防撞部的顶端高于所述版盒限位部或者所述支撑限位部的底端。

3.根据权利要求1所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述第二防撞部与所述版盒限位部之间的水平距离小于掩模版与所述版盒限位部之间的水平距离，所述转移部与所述掩模版支撑部之间的水平距离小于掩模版与所述支撑限位部之间的水平距离。

4.根据权利要求1所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述转移部上设置有若干个用于支撑掩模版的支撑块。

5.根据权利要求1所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述板叉本体上设置有用于推送位于所述叉杆上掩模版的推送组件，所述叉杆上设置有用于对掩模版进行限位的限位块。

6.根据权利要求5所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述推送组件包括有推送气缸以及连接所述推送气缸的推送件。

7.根据权利要求6所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述板叉本体上沿所述推送件的活动方向依次设置有第一传感器和第二传感器，用于监控掩模版和所述推送气缸的状态，当所述推送气缸处于缩回状态时，所述第一传感器触发所述第二传感器不触发，当所述推送气缸伸出同时所述叉杆上存在掩模版时，所述第一传感器和所述第二传感器同时触发，当所述推送气缸伸出同时叉杆上不存在掩模版时，所述第一传感器不触发所述第二传感器触发。

8.根据权利要求6所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述推送件包括推送杆和对称设置在所述推送杆两侧端部的夹块，推送所述掩模版时，所述夹块抵接于所述掩模版的两个顶角。

9.根据权利要求1所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述版盒的一端开口，用于放取掩模版，另一端设置有用于对掩模版进行限位的第一定位块。

10.根据权利要求1所述的一种掩模版传输系统，其特征在于，所述smif版架的一端开口，用于放取掩模版，另一端设置有用于对掩模版进行限位的第二定位块。

11.一种掩模版传输方法，利用如权利要求1所述的掩模版传输系统对掩模版进行转移，其特征在于，利用所述版叉从所述smif版架或版盒中取出或放入掩模版时，将叉杆放入所述smif版架或版盒中，同时所述smif板架的支撑限位部或所述版盒的版盒限位部嵌入在所述叉杆的凹槽结构内，以限制叉杆在取放掩模版时掩模版在smif版架或版盒中的垂向及水平向运动。