[发明专利]一种PI基板及其制备方法、显示装置有效
| 申请号： | 201710686967.3 | 申请日： | 2017-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN107507916B | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 郭远征;谢明哲;宋平;王有为;代伟男;汪明文 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/00 | 分类号： | H01L51/00;G09F9/30 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 莎日娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 pi 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种PI基板的制备方法，其特征在于，包括：
在基板的边缘区域形成第一离型膜；
在所述第一离型膜以及所述基板上形成第一层聚酰胺酸PAA膜；
剥离所述边缘区域的第一离型膜以及覆盖在所述第一离型膜上的所述第一层PAA膜，暴露所述边缘区域的基板；
对所述暴露所述边缘区域的基板及所述基板上的第一层PAA膜进行亚胺化处理，形成PI基板。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述暴露所述边缘区域的基板及所述基板上的第一层PAA膜进行亚胺化处理之后，还包括：
在所述基板的边缘区域及所述基板的第一层PAA膜上形成无机层；
在所述边缘区域形成第二离型膜；
在所述第二离型膜以及所述无机层上形成第二层PAA膜；
剥离所述边缘区域的第二离型膜以及覆盖在所述第二离型膜上的所述第二层PAA膜，暴露所述边缘区域的基板；
对所述暴露所述边缘区域的基板及所述基板上的第二层PAA膜进行亚胺化处理，形成所述PI基板。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第二离型膜的厚度以及所述无机层的厚度均为所述第一层PAA膜厚度的一半。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述第一离型膜以及所述基板上形成第一层PAA膜的步骤包括：
在所述第一离型膜以及所述基板上涂布PAA膜；
将所述PAA膜进行高温干燥处理，形成硬化的第一层PAA膜。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，所述第一离型膜宽度为10毫米。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，所述第一离型膜材料包括聚酰亚胺、聚丙烯中的至少一种。
7.一种PI基板，其特征在于，包括：
基板，所述基板包括中心区域和边缘区域；
第一层PAA膜，所述第一层PAA膜形成在所述基板的中心区域，其中，所述第一层PAA膜的平坦度满足预设条件；
无机层，所述无机层覆盖在所述基板的边缘区域及所述第一层PAA膜上；
第二层PAA膜，所述第二层PAA膜形成在所述基板的中心区域的所述无机层上。
8.根据权利要求7所述的PI基板，其特征在于，所述无机层的厚度为所述第一层PAA膜厚度的一半。
9.一种显示装置，包括权利要求7-8中任一项所述的PI基板。
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