[发明专利]具有弯液面控制的高精度分配系统

权利要求书

1.一种用于分配流体的装置，所述装置包括：

液压流体壳体，所述液压流体壳体限定了具有室入口开口和室出口开口的室；

长形囊状部，所述长形囊状部位于所述室内，所述长形囊状部从所述室入口开口延伸至所述室出口开口，所述长形囊状部在所述室入口开口与所述室出口开口之间限定了直线形流体流动路径，所述长形囊状部构造成在所述室内横向扩张以及横向收缩，使得在所述长形囊状部包含一定体积的过程流体时，所述长形囊状部内的所述过程流体的体积能够增大以及减小；

过程流体导管，所述过程流体导管将所述室出口开口连接至分配喷嘴；

弯液面传感器，所述弯液面传感器配置成连续监测所述过程流体在所述装置的喷嘴区域内的弯液面的位置，所述弯液面传感器配置成连续发送所述弯液面的位置的数据；以及

控制器，所述控制器配置成接收所述弯液面的位置的数据并且配置成通过激活下述压力控制系统而使所述过程流体的弯液面的位置保持在所述喷嘴区域内的预定位置：所述压力控制系统选择性地减小所述长形囊状部的外表面上的使所述长形囊状部扩张的液压流体压力，以及所述压力控制系统选择性地增大所述长形囊状部的所述外表面上的使所述长形囊状部收缩的液压流体压力。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述控制器配置成基于来自所述弯液面传感器的连续接收到的弯液面的位置数据来连续地调节所述长形囊状部的所述外表面上的液压流体压力。

3.根据权利要求1所述的装置，其中，所述弯液面传感器包括选自由光学传感器、电容传感器、视觉相机系统、超声波传感器和时域反射计组成的组的传感器。

4.根据权利要求3所述的装置，其中，所述光学传感器包括安装在所述分配喷嘴的所述喷嘴区域上的相机。

5.根据权利要求3所述的装置，其中，所述光学传感器定位成观察所述分配喷嘴的所述喷嘴区域。

6.根据权利要求1所述的装置，其中，所述弯液面传感器配置成以大于每秒10次采样的频率来捕获所述弯液面的位置数据。

7.根据权利要求1所述的装置，其中，所述弯液面传感器位于所述分配喷嘴上。

8.根据权利要求1所述的装置，其中，所述装置还构造成通过增大施加在所述长形囊状部的所述外表面上的液压流体压力来发起从所述分配喷嘴分配过程流体，并且其中，所述装置还构造成通过减小施加在所述长形囊状部的所述外表面上的液压流体压力来停止从所述分配喷嘴分配过程流体并且使弯液面的过程流体位置回吸到所述喷嘴区域内的预定位置。

9.根据权利要求1所述的装置，其中，所述控制器配置成通过减小施加在所述长形囊状部的所述外表面上的液压流体压力来执行回吸动作。

10.根据权利要求1所述的装置，其中，所述喷嘴区域至少包括所述分配喷嘴的渐缩部分。

11.根据权利要求1所述的装置，其中，所述长形囊状部构造成在没有所述过程流体正被从所述分配喷嘴分配以及在所述过程流体的弯液面的位置保持在所述喷嘴区域内的所述预定位置时扩张并收集一定量的过程流体。

12.根据权利要求1所述的装置，其中，所述装置包括过程流体阀和过程流体过滤器，所述过程流体过滤器位于所述长形囊状部的上游，并且所述过程流体阀位于所述过程流体过滤器的上游，其中，所述控制器还配置成在所述过程流体阀处于打开状态时使所述弯液面保持在预定区域内。

13.根据权利要求12所述的装置，其中，所述控制器还配置成在所述过程流体阀处于打开状态时使所述过程流体回吸至预定的弯液面位置。

14.根据权利要求12所述的装置，其中，所述装置在所述长形囊状部与所述分配喷嘴之间没有设置能够完全阻止流动穿过所述过程流体导管的流体的阀。

15.根据权利要求1所述的装置，还包括移位构件，所述移位构件能够插入到所述室中并且能够从所述室缩回。