[发明专利]一种力学性能优异的阴离子交换膜材料及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201710690332.0 申请日: 2017-08-14
公开(公告)号: CN107383406B 公开(公告)日: 2020-08-07
发明(设计)人: 魏海兵;王晓娟;丁运生;王金雷;杨善中 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: C08J5/22 分类号: C08J5/22;C08G65/333;C08F8/32;C08F212/08;C08G75/23
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 卢敏
地址: 230009 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 力学性能 优异 阴离子 交换 材料 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种力学性能优异的阴离子交换膜材料,其特征在于:为如式(1)所示的含有酰胺键结构基元的阴离子交换膜材料:

式(1)中:R1、R2各自独立地选自碳原子数为1~16的脂肪族取代基、或碳原子数为6~24的芳香族取代基;R3为H、或碳原子数为1~10的脂肪族取代基、或碳原子数为6~24的芳香族取代基;m为1-5之间的整数;X为阴离子,选自Cl、Br中的至少一种;

式(1)中的聚合物骨架的结构如式(2)、式(3)、式(4)、式(5)或式(6)所示:

式(2)中:x=0.01~0.99;n是介于10至1000之间的整数;

式(3)中:h1、i1、j1、k1各自独立的选自0或1,且1≤h1+i1+j1+k1≤4;x=0.01~0.99;n是介于10至1000之间的整数;R选自如下结构中的一种或多种:

式(4)中:h2、i2、j2、k2各自独立的选自0或1,且1≤h2+i2+j2+k2≤4;x=0.01~0.99;n是介于10至1000之间的整数;R选自如下结构中的一种或多种:

式(5)中:h3、i3各自独立的选自0或1,且1≤h3+i3≤2;x=0.01~0.99;n是介于10至1000之间的整数;R选自如下结构中的一种或多种:

式(6)中:x=0.01~0.99;n是介于10至1000之间的整数。

2.如权利要求1所述的力学性能优异的阴离子交换膜材料的制备方法,其特征在于,按如下步骤进行:

将卤甲基化的聚合物溶解在有机溶剂中,按照卤甲基化的聚合物中所含卤甲基摩尔量的1~10倍加入含酰胺键结构基元的叔胺化合物,在0~60℃下反应1~48h;反应结束后,在沉淀剂中沉淀析出,分离、洗涤、干燥后,即得到含有酰胺键结构基元的阴离子交换膜材料。

3.如权利要求2所述的阴离子交换膜材料的制备方法,其特征在于:

所述卤甲基化的聚合物的结构通式如式(7)、式(8)、式(9)、式(10)或式(11)所示:

式(7)中:x=0.01~0.99;n是介于10至1000之间的整数;Y为Cl或Br;

式(8)中:h1、i1、j1、k1各自独立的选自0或1,且1≤h1+i1+j1+k1≤4;x=0.01~0.99;n是介于10至1000之间的整数;Y为Cl或Br;R选自如下结构中的一种或多种:

式(9)中:h2、i2、j2、k2各自独立的选自0或1,且1≤h2+i2+j2+k2≤4;x=0.01~0.99;n是介于10至1000之间的整数;Y为Cl或Br;R选自如下结构中的一种或多种:

式(10)中:h3、i3各自独立的选自0或1,且1≤h3+i3≤2;x=0.01~0.99;n是介于10至1000之间的整数;Y为Cl或Br;R选自如下结构中的一种或多种:

式(11)中:x=0.01~0.99;n是介于10至1000之间的整数;Y为Cl或Br;

所述含酰胺键结构基元的叔胺化合物的结构通式如式(12)所示:

式(12)中:R1、R2各自独立地选自碳原子数为1~16的脂肪族取代基、或碳原子数为6~24的芳香族取代基;R3为H、或碳原子数为1~10的脂肪族取代基、或碳原子数为6~24的芳香族取代基;m为1-5之间的整数;

所述的有机溶剂为极性非质子溶剂;

所述的沉淀剂选自水、甲醇、乙醇、丙酮或乙醚中的至少一种。

4.一种基于权利要求1所述的阴离子交换膜材料的阴离子交换膜的制备方法,其特征在于:

将含有酰胺键结构基元的阴离子交换膜材料溶解在有机溶剂中,获得基于含有酰胺键结构基元的阴离子交换膜材料的溶液;将得到的溶液在基体或增强织物上涂膜,去除溶剂后,即得含有酰胺键结构基元的阴离子交换膜。

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