[发明专利]蒸镀坩埚及蒸镀系统在审

专利信息
申请号: 201710692335.8 申请日: 2017-08-14
公开(公告)号: CN107686968A 公开(公告)日: 2018-02-13
发明(设计)人: 徐超 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/12
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 坩埚 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及设备制造技术领域,具体涉及一种蒸镀坩埚以及一种包括所述蒸镀坩埚的蒸镀系统。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示器具有亮度高、响应快、能耗低、可弯曲等一系列的优点,在当今的平板显示器市场中占据了越来越重要的地位,代表了下一代显示器的发展趋势;而有机发光二极管与液晶显示(Liquid Crystal Display,LCD)相比,最大的优势就是可制备大尺寸、超薄、柔性、透明。

目前OLED比较成熟的工艺是使用小分子蒸镀方式,但是在目前的蒸镀制程中,点源通常是采用圆柱形坩埚且加热丝为一体式加热,坩埚内的温差是固定的,坩埚纵向长度越长,温差越难控制,所以一段式加热会造成坩埚上端和下端温差较大的问题,从而使得材料的有效使用率在10%~80%之间,量产中会造成大量的材料浪费。

发明内容

本发明提供一种蒸镀坩埚以及一种包括所述蒸镀坩埚的蒸镀系统,不仅可以有效改善目前蒸镀系统中蒸镀坩埚横向和纵向温差过大的问题,而且可以减少蒸镀材料的浪费,提高材料的利用率,降低生产成本。

根据本发明的一个方面,提供一种蒸镀坩埚,包括:坩埚本体和缠绕在所述坩埚本体四周的至少两个加热装置;

所述坩埚本体包括至少两个筒状结构,每个所述筒状结构具有不同的直径,所述坩埚本体用于盛放蒸镀材料;

每个所述筒状结构对应设置一个所述加热装置,所述加热装置对所述对应筒状结构中的蒸镀材料进行加热。

根据本发明一优选实施例,所述蒸镀坩埚还包括至少两个蒸镀筛片,每一个所述蒸镀筛片与一个所述筒状结构相对应,所述蒸镀筛片设置于其对应筒状结构的顶端,用于将所述坩埚本体内蒸镀材料的气流变的更加均匀。

根据本发明一优选实施例,所述蒸镀筛片与所述坩埚本体均采用钛制备。

根据本发明一优选实施例,每一个所述筒状结构为一个加热区域,所述坩埚本体包括三个加热区域:第一加热区域、第二加热区域、第三加热区域,所述第一加热区域为所述坩埚本体底部区域,所述第二加热区域为所述坩埚本体中部区域,所述第三加热区域为所述坩埚本体上部区域,所述第一加热区域的直径<第二加热区域的直径<第三加热区域的直径。

根据本发明一优选实施例,所述第一加热区域的高度占所述坩埚本体高度的10%,所述第三加热区域的高度占所述坩埚本体高度的15%。

根据本发明一优选实施例,所述蒸镀筛片包括第一蒸镀筛片、第二蒸镀筛片和第三蒸镀筛片,所述第一蒸镀筛片与所述第一加热区域相对应,第二蒸镀筛片与所述第二加热区域相对应,所述第三蒸镀筛片与所述第三加热区域相对应,所述第一蒸镀筛片的面积<所述第二蒸镀筛片的面积<所述第三蒸镀筛片的面积。

根据本发明一优选实施例,所述第一蒸镀筛片的圆孔直径>所述第二蒸镀筛片的圆孔直径>所述第三蒸镀筛片的圆孔直径。

根据本发明一优选实施例,所述加热装置包括延纵向方向设置的第一加热装置、第二加热装置和第三加热装置,每个所述加热装置设置在其对应加热区域的四周,能够实现所述第一加热区域、第二加热区域、第三加热区域的分开均匀加热。

根据本发明一优选实施例,所述加热装置还包括温度测控部分,用以分别测控所述至少两个加热区域的加热温度。

根据本发明的另一个方面,提供一种蒸镀系统,所述蒸镀系统包括蒸镀坩埚,所述蒸镀坩埚为任一项上述的蒸镀坩埚。

本发明提供一种蒸镀坩埚以及一种包括所述蒸镀坩埚的蒸镀系统,不仅可以有效改善目前蒸镀系统中蒸镀坩埚横向和纵向温差过大的问题,而且可以减少蒸镀材料的浪费,提高材料的利用率,降低生产成本。

附图说明

为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术的蒸镀坩埚结构示意图;

图2为本发明实施例的蒸镀坩埚的结构示意图;

图3为本发明实施例的蒸镀坩埚的又一结构示意图。

图4为本发明实施例的蒸镀筛片的结构示意图;

具体实施方式

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