[发明专利]一种基于气液两相流体的透明窗产生装置和在线测量系统有效
申请号: | 201710692616.3 | 申请日: | 2017-08-14 |
公开(公告)号: | CN107367586B | 公开(公告)日: | 2019-08-30 |
发明(设计)人: | 高咏生;谢福宝 | 申请(专利权)人: | 香港科技大学 |
主分类号: | G01N33/00 | 分类号: | G01N33/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;姜春咸 |
地址: | 中国香港*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 两相 流体 透明 产生 装置 在线 测量 系统 | ||
1.一种基于气液两相流体的透明窗产生装置,该透明窗产生装置用于在线测量系统,其特征在于,所述透明窗产生装置的一侧表面为执行面,所述执行面用于朝向待检测的工件设置,所述透明窗产生装置包括至少一组测量通道和至少一组排液嵌套结构,每组所述排液嵌套结构包括喷气通道和喷液通道:
每组所述测量通道都包括探测信号入口、探测信号出口和探测口,所述探测口形成在所述执行面上,且所述测量通道用于将探测信号入口入射的信号引导至所述探测口,并将从探测口入射的信号引导至所述探测信号出口;
每组所述喷气通道对应至少一组所述测量通道,所述喷气通道的出口形成在所述执行面上,所述喷气通道用于朝相应的所述探测口的外围喷出气体,且所述喷气通道设置为使得该喷气通道喷出的气体朝远离该喷气通道对应的探测口的方向流动;
每组所述喷气通道对应一组所述喷液通道,所述喷液通道的出口形成在所述执行面上,所述喷液通道环绕在相应的所述喷气通道外部,以用于朝相应的所述喷气通道的出口的外围喷出液体,且所述喷液通道设置为使得该喷液通道喷出的液体朝远离该喷液通道对应的所述喷气通道的方向流动。
2.根据权利要求1所述的透明窗产生装置,其特征在于,每组所述喷气通道都包括进气通道、多个气柱产生通道和与多个所述气柱产生通道一一对应的多个导向通道,所述气柱产生通道的一端在所述进气通道的侧壁处与所述进气通道连通,另一端与相应的所述导向通道连通,所述导向通道朝向远离所述探测口的方向倾斜,所述进气通道的直径大于所述气柱产生通道的直径。
3.根据权利要求2所述的透明窗产生装置,其特征在于,在同一组所述喷气通道中,多个所述气柱产生通道环绕相应的探测口设置。
4.根据权利要求1所述的透明窗产生装置,其特征在于,所述透明窗产生装置还包括至少一个气体逸出通道,所述气体逸出通道的入口设置在所述执行面上,且位于所述喷气通道的出口的外围,以将所述喷气通道喷出的气体引导至所述透明窗产生装置的外部。
5.根据权利要求4所述的透明窗产生装置,其特征在于,所述透明窗产生装置还包括设置在所述气体逸出通道的出口处的导气挡板,所述导气挡板上设置有贯穿该导气挡板的导气孔。
6.根据权利要求1所述的透明窗产生装置,其特征在于,所述喷液通道包括进液通道、连通通道、环形缓冲通道和环形导流通道,所述环形缓冲通道和所述环形导流通道均环绕所述探测口,且所述环形缓冲通道和所述环形导流通道均设置在所述喷气通道的外侧,所述环形缓冲通道通过所述连通通道与所述进液通道连通,所述环形导流通道与所述环形缓冲通道连通,所述环形导流通道的出口设置在所述执行面上,且在所述透明窗产生装置沿该透明窗产生装置的回转轴线剖切获得的纵切面上,所述环形导流通道的端面朝向远离所述探测口的方向倾斜,以使得所述环形导流通道的入口与所述环形导流通道的回转轴线之间的距离小于所述环形导流通道的出口与所述环形导流通道的回转轴线之间的距离,以使得通过所述进液通道流入所述透明窗产生装置的液体从所述环形导流通道流出时,将工件表面的冷却剂排开并形成液态防护罩。
7.根据权利要求6所述的透明窗产生装置,其特征在于,所述环形导流通道的纵向截面为锥形或者喇叭形。
8.根据权利要求6所述的透明窗产生装置,其特征在于,所述环形导流通道的出口处的切面与所述执行面平行或重叠。
9.根据权利要求8所述的透明窗产生装置,其特征在于,所述环形导流通道包括柱面导流部和球面导流部,所述柱面导流部的内表面为圆柱面,且所述柱面导流部连接在所述球面导流部与所述环形缓冲通道之间,所述球面导流部的内表面为球面。
10.根据权利要求8所述的透明窗产生装置,其特征在于,所述环形导流通道包括球面导流部和多个连通管部,多个所述连通管部环绕所述环形缓冲通道的轴线设置,且所述连通管部的一端与所述环形缓冲通道连通,另一端与所述球面导流部连通,所述球面导流部的内表面为球面。
11.根据权利要求6所述的透明窗产生装置,其特征在于,所述环形缓冲通道的横截面为圆形。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于香港科技大学,未经香港科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710692616.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。