[发明专利]曝光方法、制造方法和基板处理方法

权利要求书

1.一种曝光方法，使多片基板曝光：

于具有可个别保持2片基板的第1及第2保持区域的基板保持装置装载该2片基板，在该2片基板中的一基板的曝光开始至结束为止的期间，进行另一基板的至少一个处理区域的曝光。

2.如权利要求1所述的曝光方法，其中，是将包含该一基板的该一个处理区域的一部分保持于该基板保持装置的该第1保持区域以使该处理区域曝光的动作、与将包含该另一基板的该一个处理区域的一部分保持于该基板保持装置的该第2保持区域以使该处理区域曝光的动作，针对该一基板的曝光对象的处理区域与该另一基板的曝光对象的处理区域，依序变更不同的处理区域来实施。

3.如权利要求2所述的曝光方法，其中，该一基板的该处理区域的曝光与该另一基板的该处理区域的曝光交互进行；

该另一基板的曝光对象处理区域的变更与该一基板的曝光对象处理区域的变更，是与上述并行的交互进行。

4.如权利要求3所述的曝光方法，其中，该一基板的一个处理区域的曝光一边使该一基板与该基板保持装置一体移动于第1方向一边进行，与此并行的使该另一基板移动于与该第1方向交叉的第2方向以进行该另一基板的该处理区域的变更；

该另一基板的一个处理区域的曝光一边使该另一基板与该基板保持装置一体移动于第1方向一边进行，与此并行的使该一基板移动于该第2方向以进行该一基板的该处理区域的变更。

5.如权利要求4所述的曝光方法，其进一步包含使装载有该2片基板的该基板保持装置移动于该第1方向，以将曝光对象的处理区域从该一基板的一个处理区域变更为该另一基板的一个处理区域的动作。

6.一种元件制造方法，包含：

以权利要求1至5中任一项所述的曝光方法使该基板曝光的动作：以及

使曝光后的该基板显影的动作。

7.一种平板显示器的制造方法，包含：

以权利要求1至5中任一项所述的曝光方法使作为该基板的用于平板显示器的基板曝光的动作；以及

使曝光后的该基板显影的动作。

8.一种处理基板的基板处理方法，包含：

将与水平面平行配置的该基板的被处理面相反侧的面在确保平坦度的状态下加以保持的移动体，相对基板处理位置驱动于与该基板的面平行的既定面内的第1方向，以对该基板上的多个被处理区域依序既定处理的动作；以及

在根据该多个被处理区域在该基板上的配置与处理顺序所定的该第1方向的位置，往根据该配置与该顺序所定的方向搬送该基板以从该移动体搬出的动作。

9.如权利要求8所述的基板处理方法，其中，该既定处理的进行，该基板在与该第1方向正交的第2方向的一部分被该移动体保持的状态下驱动于该第1方向。

10.如权利要求9所述的基板处理方法，其进一步包含与该基板被从该移动体的搬出并行，将该基板在该既定面内于该第2方向搬送较该基板的该第2方向尺寸短的该保持部的该第2方向尺寸相等的距离，并将另一基板搬入该移动体上的动作。

11.如权利要求10所述的基板处理方法，其中，该基板与吸附其外周缘部至少一部分加以支承的基板支承构件一体化；

该既定处理的进行，是通过对设于该基板支承构件的反射面照射测量光束的基板干涉仪系统，测量该基板的位置。

12.如权利要求11所述的基板处理方法，其中，在开始往该移动体上的搬入至从该移动体搬出为止的期间，该基板是与该基板支承构件一体在与该既定面平行的面内被搬送。

13.如权利要求8或9所述的基板处理方法，其中，该既定处理的进行，是从配置在该处理位置的曝光系对设定的处理区域照射能量束，以使通过该处理区域的该基板曝光。

14.一种元件制造方法，包含：

以权利要求13所述的基板处理方法使基板曝光的动作；以及

使曝光后的该基板显影的动作。

15.一种平板显示器的制造方法，包含：

以权利要求13所述的基板处理方法使作为该基板的用于平板显示器的基板曝光的动作；以及

使曝光后的该基板显影的动作。