[发明专利]一种缺陷管理方法及设备

权利要求书

1.一种缺陷管理方法，其特征在于，包括：

从预先配置的缺陷模板中提取缺陷信息；

在缺陷的生命周期内根据所提取的缺陷信息确定缺陷状态；

从所述缺陷模板中导出缺陷状态为确认缺陷的缺陷信息，进行多维度缺陷分析。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述缺陷模板中的缺陷信息包括如下信息：

缺陷标识，缺陷优先级、缺陷发生位置、缺陷状态、缺陷描述、打开时间、结束时间、确认时间。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述缺陷模板中的缺陷信息还包括：

影响版本、打开原理、是否自动化。

4.如权利要求1、2或3所述的方法，其特征在于，

所述缺陷状态至少包括确认缺陷、有争议、关闭、打开、已修复。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述多维度缺陷分析包括如下一种或几种分析：

缺陷易发生的模块/人/时间段；

缺陷发生的原因；

缺陷的数量以及在项目/产品阶段的趋势；

指导缺失用例的补充，包括补充用例的顺序或者优先级。

6.一种缺陷管理设备，其特征在于，包括：

第一单元，从预先配置的缺陷模板中提取缺陷信息；

第二单元，在缺陷的生命周期内根据所提取的缺陷信息确定缺陷状态；

第三单元，从所述缺陷模板中导出缺陷状态为确认缺陷的缺陷信息，进行多维度缺陷分析。

7.如权利要求6所述的设备，其特征在于，所述缺陷模板中的缺陷信息包括如下信息：

缺陷标识，缺陷优先级、缺陷发生位置、缺陷状态、缺陷描述、打开时间、结束时间、确认时间。

8.如权利要求7所述的设备，其特征在于，所述缺陷模板中的缺陷信息还包括：

影响版本、打开原理、是否自动化。

9.如权利要求6、7或8所述的设备，其特征在于，

所述缺陷状态至少包括确认缺陷、有争议、关闭、打开、已修复。

10.如权利要求9所述的设备，其特征在于，所述第三单元，进行的多维度缺陷分析包括如下一种或几种分析：

缺陷易发生的模块/人/时间段；

缺陷发生的原因；

缺陷的数量以及在项目/产品阶段的趋势；

指导缺失用例的补充，包括补充用例的顺序或者优先级。