[发明专利]一种OLED显示面板及其制作方法有效
申请号: | 201710699927.2 | 申请日: | 2017-08-16 |
公开(公告)号: | CN107369702B | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 杨杰 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56;H01L21/77 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 oled 显示 面板 及其 制作方法 | ||
1.一种OLED显示面板,其特征在于,包括:
薄膜晶体管层;
阳极层,形成于所述薄膜晶体管层上,所述阳极层包括至少两个成阵列排布的阳极;
像素定义层,形成于所述薄膜晶体管层上,所述像素定义层包括与所述阳极一一对应的子像素开口;以及
隔断层,所述隔断层设置于任意两个相邻的所述阳极之间的所述像素定义层上,所述隔断层用于阻隔相邻的两个阳极中的一者所释放的电荷进入到阴极层中与相邻的两个所述阳极中的另一者所对应的区域;
所述隔断层包括两平行的第一短边和远离所述子像素层的第一长边,所述第一长边的长度小于相邻像素之间的所述像素定义层的宽度;
所述隔断层的剖面为一倒梯形,在垂直于所述OLED显示面板所在的平面的方向上的高度大于第一公共层、第二公共层以及所述阴极层的总和;
所述隔断层将相邻两个像素完全隔开;
其中,所述隔断层的材料与所述像素定义层相同。
2.根据权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述OLED显示面板还包括:
第一公共层,形成于所述像素定义层上,所述第一公共层将所述像素定义层和所述阳极层完全覆盖;
发光层,形成于所述第一公共层上,所述发光层包括至少两个与所述子像素开口对应的发光单元;
第二公共层,形成于所述第一公共层上,所述第二公共层将所述发光层和所述第一公共层完全覆盖;
阴极层,形成于所述第二公共层上。
3.根据权利要求2所述的OLED显示面板,其特征在于,所述第一公共层包括空穴注入层和空穴传输层,所述第二公共层包括电子注入层和电子传输层。
4.一种OLED显示面板的制作方法,其特征在于,所述OLED显示面板的制作方法包括:
步骤S40、在第一基板上形成像素定义层;
步骤S50、在所述像素定义层上形成至少两个与阳极对应的子像素开口;
步骤S60、在任意两个相邻的所述阳极之间的所述像素定义层上形成隔断层;
步骤S70、在所述像素定义层上形成第一公共层;
步骤S80、在所述第一公共层上形成至少两个与所述子像素开口对应的发光单元;
步骤S90、在所述第一公共层上依次形成第二公共层、阴极层;
所述隔断层包括两平行的第一短边和远离所述子像素层的第一长边,所述第一长边的长度小于相邻像素之间的所述像素定义层的宽度;
所述隔断层的剖面为一倒梯形,在垂直于所述OLED显示面板所在的平面的方向上的高度大于所述第一公共层、所述第二公共层以及所述阴极层的总和;
其中,所述隔断层将相邻两个像素完全隔开;所述隔断层的材料与所述像素定义层相同。
5.根据权利要求4所述OLED显示面板的制作方法,其特征在于,在所述步骤S40之前还包括:
步骤S10、在所述第一基板上形成薄膜晶体管层;
步骤S20、在所述薄膜晶体管层上形成阳极层;
步骤S30、将所述阳极层形成至少两个成阵列排布的所述阳极。
6.根据权利要求4所述OLED显示面板的制作方法,其特征在于,所述第一公共层包括空穴注入层和空穴传输层,所述第二公共层包括电子注入层和电子传输层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的