[发明专利]一种曝光机基台装置及曝光机

说明书

本发明涉及液晶显示技术领域，公开了一种曝光机基台装置及曝光机，该曝光机基台装置，包括：基台，基台具有玻璃承载面，且基台上设置有多个开口位于玻璃承载面的真空吸附孔，其中：每一个真空吸附孔内设置有可绕自身轴线转动的支撑机构，支撑机构的自身轴线与真空吸附孔的轴心线平行，且支撑机构具有用于支撑玻璃的支撑面，每一个真空吸附孔内设置有多个用于提供吸附玻璃基板吸附力的抽气孔。上述曝光机基台装置中，在基台上设置真空吸附孔，真空吸附孔内设置支撑机构，避免基台与玻璃基板完全吸附，保证玻璃基板均匀受力，使得在曝光过程中玻璃基板的所有位置曝光程度一致，有效地避免了产生曝光差异导致的亮度不均、画面异常的问题。

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，特别涉及一种曝光机基台装置及曝光机。

背景技术

曝光机基台在制作的过程中，需要通过吸附形成基台与玻璃基板的密闭区进行玻璃基板的固定，现有的基台表面设置有凸起，用来防止基台与玻璃基板完全吸附在一起，但由于凸起处的玻璃基板与非凸起处的玻璃基板的形变状态不一致，导致玻璃基板在曝光过程中产生曝光差异性，甚至在液晶显示模组的点灯状态下产生明显的差异。

发明内容

本发明提供了一种曝光机基台装置及曝光机，该曝光机基台装置中，采用基台上的真空吸附孔和真空吸附孔内的支撑机构，有效地避免了产生曝光差异导致的亮度不均、画面异常的问题。

为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：

一种曝光机基台装置，包括：基台，所述基台具有玻璃承载面，且所述基台上设置有多个开口位于所述玻璃承载面的真空吸附孔，其中：

每一个所述真空吸附孔内设置有可绕自身轴线转动的支撑机构，所述支撑机构的自身轴线与所述真空吸附孔的轴心线平行，且所述支撑机构具有用于支撑玻璃的支撑面，所述支撑机构具有第一工位，且当所述支撑机构处于第一工位时，所述支撑面与所述玻璃承载面处于同一平面，且所述支撑面的面积小于所述真空吸附孔的面积；

每一个所述真空吸附孔内设置有多个用于提供吸附玻璃基板吸附力的抽气孔。

上述曝光机基台装置中，玻璃基板放置到基台的玻璃承载面上，当支撑机构处于第一工位时，可以通过抽气孔进行抽气，由于支撑面的面积小于真空吸附孔的面积，即支撑面上形成有一个或多个缺口，使通气孔产生的吸附力通过缺口施加到玻璃基板上，即真空吸附孔产生吸附力，将玻璃基板固定在基台的玻璃承载面上，在曝光开始前，每一个真空吸附孔中的支撑机构绕自身轴线高速转动，使得支撑机构的支撑面能够均匀地对玻璃基板中与真空吸附孔相对的部位进行均匀支撑，并且，支撑面对玻璃基板提供的支撑力能够抵消真空吸附孔吸附玻璃的力，使得玻璃基板处于真空吸附孔区域部位与位于非真空吸附孔区域部位的形变状态尽量一致，从而可以消除因曝光差异导致的亮度不均、画面异常等问题。

因此，上述曝光机基台装置中，在基台上设置真空吸附孔，真空吸附孔内设置支撑机构，避免基台与玻璃基板完全吸附，保证玻璃基板均匀受力，使得在曝光过程中玻璃基板的所有位置曝光程度一致，有效地避免了产生曝光差异导致的亮度不均、画面异常的问题。

进一步地，至少一部分所述真空吸附孔内的支撑机构具有第二工位，且当所述支撑机构处于第二工位时，所述支撑面高于所述玻璃承载面。

进一步地，所述支撑机构包括支撑杆，所述支撑杆与所述基台转动连接，所述支撑杆的自由端设置有所述支撑面。

进一步地，所述支撑面的旋转中心距所述真空吸附孔的边缘的最大距离不大于所述真空吸附孔的直径。

进一步地，所述支撑面投射到所述真空吸附孔的底面上的投影形状为十字形。

进一步地，所述支撑机构的一端连接有驱动组件。

进一步地，所述驱动组件包括气动元件或电动机。