[发明专利]集成电路后端设计系统及方法在审

专利信息
申请号: 201710704976.0 申请日: 2017-08-17
公开(公告)号: CN108133069A 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 徐靖 申请(专利权)人: 上海倚韦电子科技有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 代理人: 孙益青
地址: 201203 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 设计模块 设计系统 优化模块 集成电路 功能等价性 时序 布局规划 电压衰减 分析模块 环境建立 检查模块 人力成本 任务模块 设计效率 物理验证 自动单元 综合优化 时钟树 布线 签核 环节 标准化 门槛 全局 保证
【说明书】:

发明公开了一种集成电路后端设计系统,包括:环境建立模块,设计任务模块,布局规划设计模块,自动单元放置优化模块,时钟树综合优化模块,全局布线优化模块,功能等价性检查模块,时序签核设计模块,电压衰减分析模块和物理验证模块。本发明能够对后端设计的主要设计环节进行设计顺序标准化,使其具有良好的通用性,从而大幅降低后端环节的设计门槛,降低人力成本,提高设计效率,保证设计质量。

技术领域

本发明涉及集成电路设计技术领域,具体来说涉及一种集成电路后端设计系统,以及使用该设计系统实现的一种集成电路后端设计方法。

背景技术

目前,在集成电路布图设计的过程中,由于集成电路后端设计流程长,设计环节多,因此设计流程非常复杂。业内一般是依据不同设计环节上的团队为单位,分别独立完成对应设计,然后在后端设计相应环节对各个团队的设计数据进行传递和整合并最终完成整个设计。这种工作模式产生的问题是:随着芯片设计规模和复杂度的增加,各个设计环节的团队在后期进行数据传递和整合的工作量急剧增加,且要求后端设计工程师必须同时掌握多种设计工具。存在工作效率低下、设计门槛高、人力成本居高不下的问题,导致芯片项目在工程进度和设计质量上大打折扣。因此,如何开发出一种具有通用性的集成电路后端设计系统,能够降低后端设计工程师的技术水平门槛,提高设计效率,在后端设计的各个环节进行质量控制并建立检查机制,严格保证设计的正确性,是本领域技术人员需要研究的方向。

发明内容

本发明提供了一种集成电路后端设计系统,对集成电路后端设计的主要设计环节进行设计顺序标准化,使其具有良好的通用性,从而大幅降低后端环节的设计门槛,降低人力成本,提高设计效率,保证设计质量。

其采用的具体技术方案如下:

一种集成电路后端设计系统,包括:环境建立模块,设计任务模块,布局规划设计模块,自动单元放置优化模块,时钟树综合优化模块,全局布线优化模块,功能等价性检查模块,时序签核设计模块,电压衰减分析模块和物理验证模块。

所述环境建立模块用于建立本地目录、采集前端生成的基础数据并将所述基础数据存储在本地目录下;所述设计任务模块用于定义设计任务、基于各设计任务定义其对应使用的EDA工具、基于各EDA工具分配系统资源、针对各设计任务和其对应的EDA工具生成对应的设计命令并将该设计命令保存在本地目录下;所述布局规划设计模块用于调用EDA工具和基础数据、定义I/O管脚位置、定义宏单元摆放位置、定义标准单元放置区域;所述自动单元放置优化模块用于通过EDA设计工具自动完成标准单元的放置位置优化;所述时钟树综合优化模块用于通过EDA设计工具自动生成时钟树、并对该时钟树进行优化处理;所述全局布线优化模块用于通过EDA设计工具自动生成芯片信号线路的物理连接设计、并对该芯片信号线路进行优化处理;所述功能等价性检查模块用于通过EDA设计工具验证后端生成的设计数据与前端设计的基础数据的一致性;所述时序签核设计模块用于通过EDA设计工具对后端生成的设计数据进行性能评估;所述电压衰减分析模块用于通过EDA设计工具评估和分析芯片的供电设计;所述物理验证模块用于通过EDA设计工具验证最终版图流片。

优选的是,上述集成电路后端设计系统中:所述环境建立模块包括基础数据采集单元和基础数据自检单元;所述基础数据采集单元用于采集前端基础设计数据、包括时序分析基础资料,布局布线设计基础资料,IP设计基础资料,验证设计基础资料和测试设计基础资料;所述基础数据自检单元用于对所有收集的基础设计资料进行检查,确认本地目录中收集资料的完整性,正确性和与数据源的一致性。

优选的是,上述集成电路后端设计系统中:所述设计任务模块包括EDA工具调用单元,资源分配单元,任务建立分析单元;所述EDA工具调用单元用于针对设计任务定义使用的EDA工具;所述资源分配单元用于基于EDA工具的运行时进行系统资源的分配;所述任务建立分析单元用于在设计命令生成后检查命令的完整性和正确性。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海倚韦电子科技有限公司,未经上海倚韦电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710704976.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top