[发明专利]一种可旋转可顶升的基片台

说明书

本发明公开了一种可旋转可顶升的基片台，包括基片盘、顶杆、密封组件、升降驱动机构、以及旋转驱动机构，所述基片盘与所述顶杆同轴布置，所述密封组件位于所述顶杆外周，且上端与所述基片盘连接，下端与所述顶杆下端连接，所述旋转驱动机构与所述密封组件相连，所述顶杆上端与所述基片盘之间设有用来传递旋转动力的传动件，所述传动件与所述基片盘间隙配合，所述升降驱动机构设于所述顶杆下方，所述密封组件上设有用来配合顶杆升降的伸缩段。本发明具有可靠性高，密封性能好，能驱动基片旋转和升降等优点。

技术领域

本发明涉及磁控溅射系统的工艺腔室，尤其涉及一种可旋转可顶升的基片台，尤其适用于全自动磁控溅射系统的工艺腔室自动装卸基片。

背景技术

随着国产半导体工艺设备的自动化程度日趋成熟，全自动工艺设备已是大部分用户单位的首选。为了保证基片上温度及气氛等的均匀性，位于磁控溅射系统工艺腔室内的基片台在工艺过程中需要旋转运动。同时，为实现全自动装卸基片，还需要基片台与传送机械手配合实现基片的转移，也就是说基片台在具有旋转运动的同时，基片台还能够从机械手上取放基片。此外，按照工艺要求，工艺腔室内通常具有一定的真空度，因而要求基片台在运动过程中具有良好的密封性能。

发明内容

本发明要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种可靠性高，密封性能好，能驱动基片旋转和升降的基片台。

为解决上述技术问题，本发明采用以下技术方案：

一种可旋转可顶升的基片台，包括基片盘、顶杆、密封组件、升降驱动机构、以及旋转驱动机构，所述基片盘与所述顶杆同轴布置，所述密封组件位于所述顶杆外周，且上端与所述基片盘连接，下端与所述顶杆下端连接，所述旋转驱动机构与所述密封组件相连，所述顶杆上端与所述基片盘之间设有用来传递旋转动力的传动件，所述传动件与所述基片盘间隙配合，所述升降驱动机构设于所述顶杆下方，所述密封组件上设有用来配合顶杆升降的伸缩段。

作为上述技术方案的进一步改进：所述密封组件包括磁流体密封轴及波纹管，所述磁流体密封轴上端与所述基片盘连接，下端与所述波纹管上端连接，所述波纹管下端与所述顶杆下端连接，所述旋转驱动机构与所述磁流体密封轴相连，所述波纹管构成所述伸缩段。

作为上述技术方案的进一步改进：所述波纹管上下两端均焊接有连接法兰，所述顶杆下端设置有底座，上方的连接法兰与所述磁流体密封轴之间、下方的连接法兰与所述底座之间均设有密封件。

作为上述技术方案的进一步改进：上下两连接法兰之间还设有用于防止所述波纹管上下两端发生扭转的抗扭转组件。

作为上述技术方案的进一步改进：所述抗扭转组件包括一对导向板和至少两根导向杆，一对导向板与两个连接法兰一一对应固接，各根所述导向杆下端固定于下方的导向板上，导向杆上端为阶梯状并活动地贯穿上方的导向板。

作为上述技术方案的进一步改进：所述旋转驱动机构包括驱动电机、主动带轮、从动带轮及传动带，所述驱动电机的输出轴与所述主动带轮连接，所述从动带轮安装于所述磁流体密封轴上，所述传动带绕设于所述主动带轮和所述从动带轮上。

作为上述技术方案的进一步改进：所述升降驱动机构包括驱动气缸，所述驱动气缸的活塞杆延伸至所述顶杆下端内部并通过轴承配合。

作为上述技术方案的进一步改进：所述传动件为筒状件并固设于所述顶杆上端，传动件外周均匀设有多个用于传递旋转动力的第一凸起，所述基片盘上设有与所述第一凸起配合的凹槽，所述第一凸起的上端设有延伸臂，所述延伸臂上设有朝上的第二凸起。