[发明专利]微纳压印模具

权利要求书

1.一种微纳压印模具，其特征在于，其包括基体，所述基体的一侧为压印面，所述基体于所述压印面侧设置有压印纹理和受力平台，所述受力平台的高度不低于所述压印纹理的最高点。

2.根据权利要求1所述的微纳压印模具，其特征在于，所述压印面分布有纹理区，所述压印纹理设置于所述纹理区，所述受力平台设置于所述纹理区外。

3.根据权利要求2所述的微纳压印模具，其特征在于，所述纹理区下沉于所述压印面内且所述压印纹理的最高点不超过所述压印面，所述压印面邻近所述纹理区的部分为所述受力平台。

4.根据权利要求1所述的微纳压印模具，其特征在于，所述压印面分布有复数纹理区，所述压印纹理设置于所述纹理区，所述受力平台分布于所述压印纹理间。

5.根据权利要求4所述的微纳压印模具，其特征在于，所述受力平台还分布于所述纹理区外，纹理区内的受力平台和纹理区外的受力平台的高度相等或不等。

6.根据权利要求1所述的微纳压印模具，其特征在于，至少部分相邻所述压印纹理之间设置有间隙，所述间隙处设置有所述受力平台。

7.根据权利要求6所述的微纳压印模具，其特征在于，所述压印纹理为凹下结构。

8.根据权利要求1所述的微纳压印模具，其特征在于，所述压印面于设置有所述压印纹理的区域的外围设置有所述受力平台。

9.根据权利要求1所述的微纳压印模具，其特征在于，所述基体相对于压印面的另一侧为底面，所述受力平台包括受力面，所述受力面相对于底面的高度大于所述压印纹理相对于所述底面的高度。

10.根据权利要求2所述的微纳压印模具，其特征在于，同一所述纹理区内的所述压印纹理的长、宽、高、形状、凹凸、排布密度中的至少一个参数有变化。

11.根据权利要求2所述的微纳压印模具，其特征在于，所述纹理区的所述压印纹理为凸起结构和/或凹下结构；在所述纹理区内，所述压印纹理间隔或无间隔设置。

12.根据权利要求1所述的微纳压印模具，其特征在于，所述基体相对于所述压印面的一侧设置具有遮光或绝热功能的遮掩结构。

13.根据权利要求12所述的微纳压印模具，其特征在于，所述遮掩结构对应于所述受力平台设置，和/或，所述遮掩结构与部分所述压印纹理在平行于所述压印面的投影面上部分重叠或完全重叠。

14.根据权利要求12所述的微纳压印模具，其特征在于，还包括承载层，所述底面设置于所述承载层上，所述遮掩结构位于所述基体和承载层之间。

15.根据权利要求14所述的微纳压印模具，其特征在于，所述底面和所述承载层之间设置有保护所述遮掩结构的保护层，所述保护层覆盖所述遮掩结构且位于所述遮掩结构远离所述承载层的一侧。

16.根据权利要求1所述的微纳压印模具，其特征在于，所述受力平台具有不同的高度。