[发明专利]石墨烯电路图案及其制备方法、电子产品有效
| 申请号： | 201710713723.X | 申请日： | 2017-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN109411149B | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 胡波;王文超;王宝强;朴相镇 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;H01B5/14;H01L27/32;G02F1/133 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 石墨 电路 图案 及其 制备 方法 电子产品 | ||
1.一种石墨烯电路图案的制备方法，包括：将金属电路图案浸泡在氧化石墨稀溶液中使所述金属电路图案与所述氧化石墨稀发生氧化还原反应，使得所述金属电路图案被完全反应，从而在所述金属电路图案所在部位形成石墨烯电路图案。
2.根据权利要求1所述的石墨烯电路图案的制备方法，其中，所述金属电路图案为由含铜金属材料、含铝金属材料或含铁金属材料制备的电路图案。
3.根据权利要求1所述的石墨烯电路图案的制备方法，其中，所述氧化石墨稀溶液为氧化石墨烯在水中的分散液。
4.根据权利要求3所述的石墨烯电路图案的制备方法，其中，所述氧化石墨稀溶液的浓度为(0.1-1)g/L。
5.根据权利要求1所述的石墨烯电路图案的制备方法，其中，所述金属电路图案的厚度为40nm-700nm。
6.根据权利要求1所述的石墨烯电路图案的制备方法，还包括：将所述石墨烯电路图案进行干燥处理。
7.根据权利要求6所述的石墨烯电路图案的制备方法，其中，所述干燥处理在温度为1℃-10℃的条件下进行。
8.根据权利要求7所述的石墨烯电路图案的制备方法，其中，所述干燥处理在温度为4℃-7℃的条件下进行。
9.根据权利要求1所述的石墨烯电路图案的制备方法，还包括：在基板上制备金属电路图案，然后将带有所述金属电路图案的所述基板浸泡在所述氧化石墨稀溶液中。
10.根据权利要求1所述的石墨烯电路图案的制备方法，其中，调节所述氧化石墨烯溶液的浓度和/或所述氧化还原反应的时间来控制所述石墨烯电路图案的厚度。
11.一种由权利要求1-10任一所述的方法制备的石墨烯电路图案。
12.一种电子产品，包括权利要求11所述的石墨烯电路图案作为信号线。
13.根据权利要求12所述的电子产品，其中，所述电子产品为液晶显示面板、有机发光显示面板。
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