[发明专利]像差补偿装置和方法、光刻投影物镜及其像差补偿方法

权利要求书

1.一种像差补偿装置，用于对一光学成像系统进行像差补偿和校正，其特征在于，所述像差补偿装置包括磁流变液反射镜、用于调整所述磁流变液反射镜的磁场发生装置、波前探测器及与所述波前探测器连接的计算机控制器，所述波前探测器和磁流变液反射镜沿光路依次设置在所述光学成像系统中，所述磁流变液反射镜包括：可变形反射镜和与所述可变形反射镜一体式设置的磁流变液，其中，通过改变所述磁流变液不同区域的磁场的强度大小和方向，改变所述磁流变液的不同区域磁流体颗粒的分布，将所述磁流变液与所述可变形反射镜组合使用，以改变所述磁流变液反射镜的面型。

2.如权利要求1所述的像差补偿装置，其特征在于，所述磁流变液包括铁磁性易磁化颗粒、母液油和稳定剂。

3.如权利要求1所述的像差补偿装置，其特征在于，所述磁场发生装置包括电磁线圈和与所述电磁线圈连接的电流控制装置。

4.一种包括如权利要求1-3任一所述的像差补偿装置的光刻投影物镜，其特征在于，包括沿光路依次设置的第一投影物镜组、所述像差补偿装置和第二投影物镜组。

5.如权利要求4所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第一投影物镜组包括若干第一透镜，物方光线依次通过所述第一透镜，照射在所述磁流变液反射镜上。

6.如权利要求5所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第二投影物镜组包括若干第二透镜，经磁流变液反射镜的反射光依次通过各第二透镜，达到像方位置。

7.如权利要求4所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第一投影物镜组与所述磁流变液反射镜之间还设置有孔径光阑。

8.一种像差补偿方法，其特征在于，包括：

步骤1：对一光学成像系统的像质进行检测，获取像质测试数据；

步骤2：根据所述像质测试数据对光学成像系统的全视场下的zernike项的分布进行计算，得出全视场下每个Zernike系数的常数项；

步骤3：将得到的全视场下每个Zernike系数的常数项转化为所述光学成像系统中一磁流变液反射镜的磁流体位置的调整量；

步骤4：根据所述磁流变液反射镜中磁流体位置的调整量调整所述磁流变液反射镜的面型，其中，所述磁流变液反射镜包括可变形反射镜和与所述可变形反射镜一体式设置的磁流变液，通过改变所述磁流变液不同区域的磁场的强度大小和方向，改变所述磁流变液的不同区域磁流体颗粒的分布，将所述磁流变液与所述可变形反射镜组合使用，以改变所述磁流变液反射镜的面型；

步骤5：重复步骤1-4，直至所述光学成像系统中的像差位于设定阈值内。

9.如权利要求8所述的像差补偿方法，其特征在于，所述步骤3中：将每个zernike系数的常数项除以波长值的结果带入zernike系数与相对视场的对应关系公式，对上述计算的结果进行加和并取反号，得到相对视场下磁流变液反射镜的调整量，将数据乘以波长获得实际的调整量。

10.一种采用如权利要求8-9中任一所述方法补偿光刻投影物镜的像差的方法，所述光学成像系统为光刻投影物镜。