[发明专利]一种合成能量石及其制备方法

权利要求书

1.一种合成能量石，其特征在于：包括石质基体（1）、永磁片（2）、锗石片（3）和铁橄榄石片（5），所述石质基体（1）的一侧表面上开有若干相互平行的沟槽（4），沟槽（4）内嵌装有若干永磁片（2），所述永磁片（2）沿沟槽（4）纵向均布排列，永磁片（2）之间排列有若干锗石片（3）和铁橄榄石片（5）。

该能量石是经锯切研磨、粘磁锗片、底釉抹平、面釉喷涂、入窑烧结和抛光俢整制作而成，具体制备方法如下：

锯切研磨：将基体矿物锯磨成设定型石质基体（1），并在其任意一面上锯切出若干相互平行的沟槽（4）；

粘磁锗片：在沟槽（4）内涂抹一层粘结料，将永磁片（2）在沟槽（4）内沿纵向等间距均匀排布，再利用锗石片（3）和铁橄榄石片（5）填充永磁片（2）之间的空隙直至填满纵向沟槽（4）；

底釉抹平：在能量釉料中掺入着色剂，对沟槽（4）内排布的永磁片（2）、锗石片（3）和铁橄榄石片（5）进行刮涂抹平直至与沟槽（4）顶面齐平，然后进行干燥处理；

面釉喷涂：用能量釉料对石质基体（1）除沟槽（4）所在面的相对面以外的其余表面进行0.5-1.5mm厚度的施釉处理，制成生坯，生坯的未施釉面为正面；

入窑烧结：是对合成生坯按5-20℃/min速率升温至1080-1250℃，保持60-180min，其后按升温速率降至500-600℃回火2-4小时制成半成品；

抛光修整：对未施釉的正面进行抛光处理，成品。

2.根据权利要求1所述的合成能量石，其特征在于：所述石质基体（1）采用橄榄石、蛇纹石、蛇纹玉、阳起石、透辉石、石英岩玉或叠层石中的任意一种基体矿物加工而成。

3.根据权利要求2所述的合成能量石，其特征在于：所述永磁片（2）是经磁场取向及成型而未烧结的钐钴合金或钕铁硼的坯体片。

4.根据权利要求3所述的合成能量石，其特征在于：所述沟槽（4）深度为3-10mm，宽度不小于12mm，永磁片（2）宽度与沟槽（4）宽度相等。

5.根据权利要求4所述的合成能量石，其特征在于：所述锗石片（3）的厚度为3-10mm，锗元素大于300PPm。

6.根据权利要求5所述的合成能量石，其特征在于，所述粘磁锗片工序中使用的粘结料是在能量釉料中配加硅酸钠并按（3-4）：1的质量份比混合而成。

7.根据权利要求6所述的合成能量石，其特征在于：所述锗石片（3）和铁橄榄石片（5）的面积比为1：（0-1）。

8.根据权利要求7所述的合成能量石，其特征在于：所述粘磁锗片、底釉抹平和面釉喷涂工序中使用的能量釉料包括如下质量份的组分：5-15份钠长石、10-30份透辉石、10-20份透闪石、10-30份镁橄榄石、10-30份高岭土、10-25份石英石和2-6份能量矿石，用150网目球磨及加水工艺磨制成生料釉。

9.根据权利要求8所述的合成能量石，其特征在于，所述能量矿石采用电气石、独居石、金红石和奇才石中的两种或以上。