[发明专利]对焦方法、对焦装置及电子设备有效

专利信息
申请号: 201710723455.X 申请日: 2017-08-22
公开(公告)号: CN107483819B 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 杜琳 申请(专利权)人: 北京小米移动软件有限公司
主分类号: H04N5/232 分类号: H04N5/232
代理公司: 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 代理人: 林祥
地址: 100085 北京市海淀区清河*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 对焦 方法 装置 电子设备
【说明书】:

本公开是关于一种对焦方法、对焦装置及电子设备。其中,上述对焦方法包括:获取图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息,并根据所述光线信息控制确定和/或调整所述图像传感器的对焦状态。其中,所述成像子区可在入射光线的照射下发生形变,上述反射电磁波信号随之发生变化,因此便于确定入射光线的光线信息,使得对焦过程快速准确。

技术领域

本公开涉及电子技术领域,尤其涉及对焦方法、对焦装置及电子设备。

背景技术

在相机等摄像装置中,比较常见的一种对焦方式是基于图像传感器的反差检测对焦,其特点是可以视频实时对焦。

相关技术中多采用有源光线采集方案以配合上述对焦过程,即在需要采集光线信息的地方安装例如半导体感光传感器等具有感光能力的设备。通过上述感光传感器采集的光线信息来控制相机等摄像装置进行反差式对焦。

发明内容

为克服相关技术中存在的问题,本公开提供一种对焦方法、对焦装置及电子设备。

根据本公开的第一方面,提出一种对焦方法,该方法包括:

获取反射电磁波信号,所述反射电磁波信号由图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成;其中,所述图像传感器包括若干成像子区,所述成像子区可在入射光线的照射下发生形变;

根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息;

根据所述光线信息确定和/或调整所述图像传感器的对焦状态。

可选的,所述根据所述光线信息确定和/或调整所述图像传感器的对焦状态,包括:

根据所述光线信息控制所述成像子区在平行于入射光线的方向上运动,以确定和/或调整所述图像传感器的对焦状态。

可选的,根据所述光线信息控制所述成像子区在平行于入射光线的方向上运动,以确定和/或调整所述图像传感器的对焦状态,包括:

控制至少两个所述成像子区在平行于入射光线方向的不同深度区间运动,以形成第一相对位置关系;

获取每个所述成像子区在运动中的对比度曲线,以确定对比度最大的成像子区的深度位置;其中,所述对比度可由照射在所述成像子区的入射光线的光线信息确定;

控制所述成像子区朝向对比度最大的成像子区的深度位置运动,以确定和/或调整所述图像传感器的对焦状态。

可选的,控制所述成像子区朝向对比度最大的成像子区的深度位置运动,以确定和/或调整所述图像传感器的对焦状态,包括:

至少根据所述第一相对位置关系和所述对比度曲线,确定所述至少二个成像子区在平行于入射光线方向上与对比度最大的所述成像子区的第二相对位置关系;

至少根据所述第二相对位置关系,确定和/或调整所述图像传感器的对焦状态。

可选的,根据所述光线信息控制所述成像子区在平行于入射光线的方向上运动,以确定和/或调整所述图像传感器的对焦状态,包括:

在所述对焦状态调整过程中,控制所述成像子区沿平行于所述入射光线方向的运动位移依次递减。

可选的,根据所述光线信息确定和/或调整所述图像传感器的对焦状态,包括:

由照射在所述成像子区的入射光线的光线信息确定成像深度;

根据所述成像深度获取合焦位置,以确定和/或调整所述图像传感器的对焦状态。

可选的,所述成像子区包括:

感光层,感应入射光线的照射,并发生形变;

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