[发明专利]光学扫描设备和包括光学扫描设备的图像形成装置在审
申请号: | 201710732185.9 | 申请日: | 2017-08-24 |
公开(公告)号: | CN107783281A | 公开(公告)日: | 2018-03-09 |
发明(设计)人: | 木村一己 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G02B26/12 | 分类号: | G02B26/12;G03G15/04;H04N1/04 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 张劲松 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 扫描 设备 包括 图像 形成 装置 | ||
1.一种光学扫描设备,包括:
偏转器,所述偏转器被配置为偏转第一和第二光束以在主扫描方向上扫描第一被扫描表面的有效区域;和
第一和第二成像光学系统,所述第一和第二成像光学系统被配置为将由所述偏转器偏转的第一和第二光束引导到第一和第二区域,所述第一和第二区域被包括在所述有效区域中并且在所述主扫描方向上彼此不同,
其中,在所述第一区域中,在所述主扫描方向上,关于所述第一成像光学系统的第一光轴的远离所述第二区域的一侧的、所述第一区域中的第三区域的宽度比关于所述第一光轴的接近所述第二区域的一侧的、所述第一区域中的第四区域的宽度长,并且
其中,在所述第二区域中,在所述主扫描方向上,关于所述第二成像光学系统的第二光轴的远离所述第一区域的一侧的、第五区域的宽度比关于所述第二光轴的接近所述第一区域的一侧的、第六区域的宽度长。
2.根据权利要求1所述的光学扫描设备,其中,所述第一和第二光束从关于基准平面彼此不同的侧入射在所述偏转器上,所述基准平面包括所述偏转器的旋转轴并且与所述主扫描方向垂直。
3.根据权利要求2所述的光学扫描设备,其中,在所述有效区域中,所述第一区域是关于所述基准平面的所述第一光束入射在所述偏转器上的一侧的区域,并且所述第二区域是关于所述基准平面的所述第二光束入射在所述偏转器上的一侧的区域。
4.根据权利要求1所述的光学扫描设备,其中,在所述主扫描截面中,当所述偏转器的外接圆的半径为Rd[mm]、所述第四和第六区域的宽度为Yc[mm]并且所述第三和第五区域的宽度为Ye[mm]时,Yc<Rd<Ye的条件被满足。
5.根据权利要求1所述的光学扫描设备,其中,当所述主扫描截面中的所述偏转器的外接圆的半径为Rd[mm]并且所述偏转器上的所述第一和第二光束中的每一个的主光线的入射位置与所述偏转器的旋转轴之间的光轴方向上的距离为Lx[mm]时,-Rd/2≤Lx≤Rd/2的条件被满足。
6.根据权利要求1所述的光学扫描设备,其中,所述偏转器在彼此不同的定时扫描所述第一和第二区域。
7.根据权利要求1所述的光学扫描设备,还包括分离元件,所述分离元件被配置为使从共用光源发射的所述第一和第二光束彼此分离。
8.根据权利要求7所述的光学扫描设备,还包括:
反射元件,
其中,所述第一光束通过所述分离元件被偏转,并且被引导到所述偏转器,并且
其中,所述第二光束不通过所述分离元件而在所述反射元件上被反射,并且被引导到所述偏转器。
9.根据权利要求1所述的光学扫描设备,其中,光束的扫描速度在所述第一区域中的轴上像高与轴外像高之间不同,并且光束的扫描速度在所述第二区域中的轴上像高与轴外像高之间不同。
10.根据权利要求1所述的光学扫描设备,还包括第三和第四成像光学系统,所述第三和第四成像光学系统被配置为在所述偏转器偏转第三和第四光束以在所述主扫描方向上扫描第二被扫描表面的有效区域的情况下、将由所述偏转器偏转的所述第三和第四光束分别引导到第七和第八区域,所述第七和第八区域被包括在所述有效区域中并且在所述主扫描方向上彼此不同。
11.根据权利要求10所述的光学扫描设备,其中,在所述主扫描方向上,关于所述第三成像光学系统的光轴的远离所述第八区域的一侧的、所述第七区域中的第九区域的宽度比关于所述第三成像光学系统的光轴的接近所述第八区域的一侧的、所述第七区域中的第十区域的宽度长,并且关于所述第四成像光学系统的光轴的远离所述第七区域的一侧的、所述第八区域中的第十一区域的宽度比关于所述第四成像光学系统的光轴的接近所述第七区域的一侧的、所述第八区域中的第十二区域的宽度长。
12.根据权利要求10所述的光学扫描设备,还包括:
第一分离元件,所述第一分离元件被配置为分离从第一光源发射的所述第一和第三光束;和
第二分离元件,所述第二分离元件被配置为分离从第二光源发射的所述第二和第四光束。
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