[发明专利]低旁瓣的基于互质思想的分子阵布阵方法有效
申请号: | 201710735645.3 | 申请日: | 2017-08-24 |
公开(公告)号: | CN107611624B | 公开(公告)日: | 2020-10-23 |
发明(设计)人: | 谢菊兰;干鹏;杨雪;罗紫惠;何子述 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01Q21/00 | 分类号: | H01Q21/00;G06F30/20 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 周刘英 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 低旁瓣 基于 思想 分子 布阵 方法 | ||
本发明公开了一种低旁瓣的基于互质思想的分子阵布阵方法,属于阵列信号技术领域,本发明的布阵方法为:由N个阵元数为M的子阵构成一维初始线阵,各子阵间的间距均为Md,各子阵内的阵元间距均为Nd,d为半个载波波长,M与N互质;对一维初始线阵进行扩展:分别为每个子阵增加a个阵元,得到扩展子阵,其中a不小于0.5M的上取整,扩展子阵的阵元间距均为Nd;增加a个扩展子阵,且扩展子阵间的间距均为Md;去除重合阵元得到扩展后的一维线阵结构。同时对本发明进行进一步扩展还可以用于对二维面阵的布阵处理,如沿三维坐标的X或Y轴方向扩展,或同时沿X、Y轴方向扩展来得到二维阵列结构。本发明的可扩展性好,扫描性能优良,对应的波束图的主瓣窄,旁瓣低。
技术领域
本发明涉及阵列信号处理领域的布阵技术和波束形成技术,具体是涉及一种低旁瓣的基于互质思想的分子阵布阵方法。
背景技术
天线阵列的布阵结构在很多工程实际应用中都有着很重要的作用。通过对天线阵列的结构的规划、阵元位置的排布,可以使天线获得理想的波束形状、较低的旁瓣电平和较强的方向性等。
波束形成技术(Beamforming)是阵列信号处理领域的一个重要组成部分。波束形成就是构造一个空域滤波器,通过改变滤波器的权值,可使某些方向的信号通过滤波器,同时抑制其他方向的信号。
从系统的角度来看,波束形成技术可分为静态波束形成和自适应波束形成。静态波束形成是根据系统需求,用一组固定的幅相权值形成天线方向图,不需要阵列输入信号的信息。自适应波束形成是利用实时输入的信号训练加权值以实现抑制干扰,增强有用信号的目的。
波束图的作用类似于时域处理中的频率响应。主瓣宽度和旁瓣高度是波束图的两个重要特征。波束图的主瓣宽度越窄,阵列处理不同方向的来波信号的性能越好;波束图的旁瓣高度越低,阵列抑制干扰和噪声的性能越好。因此期望的波束图应该具备主瓣宽度窄,旁瓣高度低的特点。
均匀线阵(ULA)虽然结构简单,便于数学计算和装配,但也有缺陷:一是为了提高阵列的分辨率,需要较大的阵列孔径,而为了防止出现栅瓣,阵元间距要求不大于半波长,这样一来就增加了阵元数目,大大增加了硬件成本和维护成本;二是在天线波长较小时,阵元之间的互耦效应会降低性能。
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