[发明专利]一种提高除胶均匀性的辅助抽真空装置及抽真空方法有效
| 申请号： | 201710737898.4 | 申请日： | 2017-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN107623995B | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 莫崇明;彭卫红;莫崇慧;杜明星 | 申请（专利权）人： | 深圳崇达多层线路板有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/00 | 分类号： | H05K3/00 |
| 代理公司： | 44242 深圳市精英专利事务所 | 代理人： | 冯筠 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区沙井街道新桥横岗下工*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 均匀 辅助 真空 装置 方法 | ||
1.一种提高除胶均匀性的辅助抽真空装置，其特征在于：包括一个用于安装在真空设备内的屏壁，所述屏壁与真空设备内的腔体的截面形状相匹配，所述屏壁均匀设有若干个通孔；所述屏壁中朝向抽真空入口的端面上设有内凹的长方形腔体，使所述屏壁与真空设备的内壁之间形成一个用于缓冲压力的夹壁腔体。
2.根据权利要求1所述的提高除胶均匀性的辅助抽真空装置，其特征在于：各所述通孔的面积之和等于真空腔的抽真空入口的面积。
3.根据权利要求1所述的提高除胶均匀性的辅助抽真空装置，其特征在于：各所述通孔沿屏壁上下均匀设有五排。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的提高除胶均匀性的辅助抽真空装置，其特征在于：沿所述屏壁外缘设有用于形成一个凹槽的凸起。
5.根据权利要求4所述的提高除胶均匀性的辅助抽真空装置，其特征在于：沿所述屏壁外缘设置的凸起的厚度均相等。
6.根据权利要求1至3中任意一项所述的提高除胶均匀性的辅助抽真空装置，其特征在于：所述屏壁为长方形。
7.一种使用权利要求1至6中任意一项所述的提高除胶均匀性的辅助抽真空装置进行抽真空方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、安装辅助抽真空装置：将屏壁安装在真空设备内，所述真空设备设有抽真空入口，通过屏壁上的长方形腔体使屏壁与抽真空入口形成一个用于缓冲压力的夹壁腔体；
S2、进行抽真空直至等离子除胶工艺完成。
8.根据权利要求7中任意一项所述的抽真空方法，其特征在于：在所述步骤S1中，所述屏壁外壁设有凸起，所述凸起朝抽真空入口方向设置。
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