[发明专利]一种调试方法及蒸镀机

说明书

本发明公开了一种调试方法及蒸镀机，该方法用于调整精密型掩膜板与待作业基板的相对位置，包括：装载调试用基板至调试用蒸镀腔内；装载精密型掩膜板至调试用蒸镀腔内；开启调试用蒸镀腔内的光源并通过精密型掩膜板而照射调试用基板上的光致变色层，其中，光致变色层中被照射光照射的部分区域发生变色；根据光致变色层中发生变色的部分区域的位置，而获取精密型掩膜板的补偿值。上述方法在调整时可以省去有机材料，提高调试速度。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种调试方法及蒸镀机。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)显示面板具有主动发光、亮度高、对比度高、超薄、功耗低、视角大以及工作温度范围宽等诸多优点，是一种具有广泛应用的新型平板显示装置。

在制备OLED显示面板的过程中，需要采用真空蒸镀技术制备OLED薄膜，具体地，在真空环境中加热有机材料，使得有机材料受热升华，通过具有图案的精密型掩膜板，在基板子像素对应的阳极图案上形成具有一定形状的有机薄膜(也称为发光层)，其中，不同颜色的子像素对应不同的精密型掩膜板，每种颜色的子像素都需要一张精密型掩膜板。经历多种材料的连续沉积成膜，即可形成具有多层薄膜结构的OLED结构。目前精密型掩膜板与待作业基板进行对位时，对位精度通常可以控制在<±3μm范围内，但是即使对位达到规格，实际沉积在子像素阳极图案之上的有机薄膜位置也会发生偏移，当子像素阳极图案上的有机薄膜或金属薄膜发生偏移时，在显示面板被点亮后，容易发生混色效应，因此在全自动生产前，都要对精密型掩膜板的位置进行补偿，使得蒸镀成膜后，成膜图案覆盖在子像素阳极图案上，并且阳极图案位于成膜图案的中央。

现有的调整精密型掩膜板成膜图案位置的方法，浪费较多的成膜材料，且调试速度较慢。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种调整精密型掩膜板与待作业基板的相对位置的调试方法，能够在调整精密型掩膜板与待作业基板的相对位置的过程中省去有机材料，并且提高调试速度。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种调试方法，用于调整精密型掩膜板与待作业基板的相对位置，包括：

装载调试用基板至调试用蒸镀腔内，其中，所述调试用基板包括基板以及设置在基板上的光致变色层和阳极薄膜层，所述光致变色层和所述阳极薄膜层之一被预先图案化；

装载所述精密型掩膜板至所述调试用蒸镀腔内，其中，所述精密型掩膜板包括透光区和遮光区；

所述精密型掩膜板和所述调试用基板对位后，开启所述调试用蒸镀腔内的光源并通过所述精密型掩膜板而照射所述调试用基板上的所述光致变色层，其中，所述光致变色层中被照射光照射的部分区域发生变色；

根据所述光致变色层中发生变色的部分区域的位置，而获取所述精密型掩膜板的补偿值，其中，所述补偿值用于供蒸镀机调整所述精密型掩膜板与所述待作业基板的相对位置。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种蒸镀机，包括多个正常工作的蒸镀腔和至少一个调试用蒸镀腔，其中，所述调试用蒸镀腔用于获取精密型掩膜板的补偿值以供所述蒸镀机调整在所述正常工作的蒸镀腔内的所述精密型掩膜板与待作业基板的相对位置，所述调试用蒸镀腔获取所述精密型掩膜板的补偿值的调试方法包括：

装载调试用基板至所述调试用蒸镀腔内，其中，所述调试用基板包括基板以及设置在基板上的光致变色层和阳极薄膜层，所述光致变色层和所述阳极薄膜层之一被预先图案化；

装载所述精密型掩膜板至所述调试用蒸镀腔内，其中，所述精密型掩膜板包括透光区和遮光区；