[发明专利]转印膜片与其制作方法

权利要求书

1.一种转印膜片，其特征在于，包括：

一基材，具有彼此相对的一第一表面与一第二表面，且该第一表面具有一第一立体图纹；

一保护层，设置于该基材的该第一表面上，该保护层具有彼此相对的一第三表面与一第四表面，其中该第三表面与该第一表面接触，且该第三表面具有一与该第一立体图纹互补的第二立体图纹，该第四表面具有一第三立体图纹；

一金属镀层，设置于该保护层的该第四表面上，其中该金属镀层具有彼此相对的一第五表面与一第六表面，且该第五表面与该第四表面接触；以及

一油墨层，设置于该金属镀层的该第六表面上，其中该保护层与该基材在转印后分离，以暴露出该第二立体图纹，并反射出该第三立体图纹，

其中，该第二立体图纹的几何轮廓不同于该第三立体图纹的几何轮廓。

2.如权利要求1所述的转印膜片，其特征在于，更包括：

一黏着层，设置于该油墨层上，且该金属镀层与该黏着层分别位于该油墨层的相对两侧。

3.如权利要求1所述的转印膜片，其特征在于，该第五表面具有一与该第三立体图纹互补的第四立体图纹，且该第六表面具有一共形于该第四立体图纹的第五立体图纹。

4.如权利要求3所述的转印膜片，其特征在于，该油墨层具有一与该第六表面接触的第七表面，且该第七表面具有一与该第五立体图纹互补的第六立体图纹。

5.如权利要求1所述的转印膜片，其特征在于，该保护层为透明保护层，配置用以使光线穿过，并使接触该第四表面与该第五表面交界处的光线反射而出。

6.如权利要求1所述的转印膜片，其特征在于，该金属镀层为半透明金属镀层。

7.如权利要求6所述的转印膜片，其特征在于，该金属镀层的光穿透率介于30％至80％之间。

8.一种转印膜片的制作方法，其特征在于，包括：

提供一基材，该基材具有彼此相对的一第一表面与一第二表面，且该第一表面具有一第一立体图纹；

于该基材的该第一表面上形成一保护层，该保护层具有彼此相对的一第三表面与一第四表面，其中该第三表面与该第一表面接触以形成一与该第一立体图纹互补的第二立体图纹，且该第四表面具有一第三立体图纹；

于该保护层的该第四表面上形成一金属镀层，其中该金属镀层具有彼此相对的一第五表面与一第六表面，且该第五表面与该第四表面接触；以及

于该金属镀层的该第六表面上形成一油墨层，其中该保护层与该基材在转印后分离，以暴露出该第二立体图纹，并反射出该第三立体图纹，

其中，该第二立体图纹的几何轮廓不同于该第三立体图纹的几何轮廓。

9.如权利要求8所述的转印膜片的制作方法，其特征在于，更包括：

于该油墨层上形成一黏着层，且该金属镀层与该黏着层分别位于该油墨层的相对两侧。

10.如权利要求8所述的转印膜片的制作方法，其特征在于，于该保护层的该第四表面上形成该金属镀层时，该第五表面形成一与该第三立体图纹互补的第四立体图纹，且该第六表面形成一第五立体图纹，该第四立体图纹与该第五立体图纹共形。

11.如权利要求10所述的转印膜片的制作方法，其特征在于，该油墨层具有一与该第六表面接触的第七表面，且于该金属镀层的该第六表面上形成该油墨层时，该第七表面形成一与该第五立体图纹互补的第六立体图纹。

12.如权利要求8所述的转印膜片的制作方法，其特征在于，该保护层为透明保护层，配置用以使光线穿过，并使接触该第四表面与该第五表面交界处的光线反射而出。

13.如权利要求8所述的转印膜片的制作方法，其特征在于，该金属镀层为半透明金属镀层。