[发明专利]光酸生成化合物和相关聚合物，光致抗蚀剂组合物，和形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法

权利要求书

1.一种光酸生成化合物，其具有以下结构

其中

R¹是包含羟基、内酯基或其组合的C_6-20多环烃基；

R²是包含羟基、内酯基或其组合的C_6-20多环烃基；或

-[(CH₂)_n-Y-SO₃^-Z⁺]，

其中n是0、1或2；Y是包含至少一个氟原子的C_1-4亚烷基，其条件是当n是0时，Y是包含至少一个氟原子的C_2-4亚烷基；并且Z⁺是有机阳离子；

R³和R⁴各自独立地是氢、氰基、C_1-6烷基、C_1-6氟烷基、任选地经取代的C_6-12芳基，或-C(O)O-R¹¹，其中R¹¹是任选地包含一个或多个杂原子的C_1-20烷基；并且

Q是

其中

R⁵和R⁶各自独立地是氢、氟、氰基、三氟甲基、C_1-6烷基、包含内酯基的C_6-20烃基，或-OR¹²，其中R¹²是C_1-20烷基，或包含内酯基的C_6-20烃基；并且

R⁷、R⁸、R⁹和R¹⁰各自独立地是氢；羟基：-OR¹³，其中R¹³是任选地包含一个或多个杂原子的C_1-20烃基；-SR¹³，其中R¹³如上所定义；-OC(O)R¹³，其中R¹³如上所定义；-N(R¹⁴)C(O)R¹³，其中R¹³如上所定义，并且R¹⁴是氢或任选地包含一个或多个杂原子的C_1-20烃基；-[OC(O)C(R^a)＝CH₂]，其中R^a是氢或氟或氰基或C_1-10烷基或C_1-10氟烷基；-[O-(CH₂)_n-Y-SO₃^-Z⁺]，其中n、Y和Z⁺如上所定义；-[S-(CH₂)_n-Y-SO₃^-Z⁺]，其中n、Y和Z⁺如上所定义；或-[O-C(O)-(CH₂)_n-Y-SO₃^-Z⁺]，其中n、Y和Z⁺如上所定义；并且

X是-CH₂-、-O-、-C(O)-、-S(O)-或-S(O)₂-；

其条件是所述光酸生成化合物包含

存在恰好一个-[(CH₂)_n-Y-SO₃^-Z⁺]，

存在1或2个包含羟基、内酯基或其组合的所述C_6-20多环烃基，以及

总共存在1、2或3个羟基和内酯基；并且其条件是当Q是

并且R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹和R¹⁰是氢，并且R²是-[(CH₂)_n-Y-SO₃^-Z⁺]时，那么R¹不包括C(O)O-基团和-S(O)₂-基团。