[发明专利]彩膜基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板的制造方法。

背景技术

彩膜基板作为显示器件的重要组成部分，其制备需要繁杂的工艺。彩膜基板的制备过程中，主要的工艺集中于对像素的制备，对于传统的RGB三原色组成的像素，每形成一个颜色的像素都需要一道单独的掩膜工艺，包括清洗、涂胶、曝光、显影等工序，三原色组成的像素则需要三道掩膜工艺。目前具有RGBY四色像素的显示器件也得到了广泛的发展。RGBY四色像素是在传统的RGB三原色组成像素的基础上，再增加一个黄色的子像素形成RGBY四色像素，通过四色技术，无须多耗费电力，就能实现更广阔的色域。

但是这也意味着又需要增加形成黄色像素的掩膜，工艺复杂度加大。无论是传统的RGB三原色像素结构还是现在新兴的RGBY四色像素结构，都需要尽量减少掩膜的使用，每减少一道掩膜就能减少清洗、涂胶、曝光、显影等一系列的工序，能很大程度上减少工艺复杂度。

发明内容

鉴于相关技术中的上述问题，本发明的目的在于提供一种彩膜基板的制造方法。

本发明提供一种彩膜基板的制造方法，所述彩膜基板包括衬底基板、黑矩阵层和多个彩色像素单元，所述彩色像素单元包括至少三种颜色的亚像素单元，其中，所述彩膜基板的制造方法包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上形成黑矩阵层和所述多个彩色像素单元，其中形成所述多个彩色像素单元的步骤包括：

在所述衬底基板上沉积不可逆温变材料；

对所述不可逆温变材料进行加热，以形成所述彩色像素单元中的至少两种颜色的亚像素单元。

可选的，所述不可逆温变材料包括铅、镍、钴、铁、镉、锶、锌、猛、钼、镁等的硫酸盐、硝酸盐、磷酸盐、硫化物、氧化物以及偶氮颜料、酞菁颜料、芳基甲烷燃料中的任意一种或其组合。

可选的，所述彩色像素单元包括红色亚像素单元、绿色亚像素单元、蓝色亚像素单元和黄色亚像素单元，所述彩膜基板的制作方法包括：

在每个所述彩色像素单元中采用不可逆温变材料形成至少两个黄色亚像素单元，加热所述黄色亚像素单元中的一个得到绿色亚像素单元。

可选的，所述不可逆温变材料包括PbCrO₄，且对所述不可逆温变材料PbCrO₄加热的温度为800℃以上。

可选的，对所述不可逆温变材料PbCrO₄加热的温度为800℃以上。

可选的，所述黄色亚像素为岛状结构。

可选的，所述黄色亚像素的排列为条状结构。

可选的，采用定点且独立控制的加热方式对需要加热的亚像素单元进行加热。

可选的，采用整条加热的方式对需要加热的亚像素单元进行加热。

本发明提供的彩膜基板的制造方法，选择不可逆温变材料形成彩色像素单元中部分颜色的亚像素单元，对该部分颜色的亚像素单元进行加热得到其他颜色的亚像素单元，节约了所用掩膜的次数，减小了工艺复杂度。

附图说明

图1为RGB三色像素的彩膜基板的结构示意图。

图2为RGBY四色像素的彩膜基板的结构示意图。

图3为相关技术中岛状结构的黄色亚像素单元模版的设计版图。

图4为相关技术中条状设计的黄色亚像素单元模版的设计版图。

图5为根据本发明彩膜基板的制造方法的流程图。

图6为根据本发明实施例一的彩膜基板的制造方法的流程图。

图7为根据本发明实施例一的岛状结构的黄色亚像素单元模版的设计版图。

图8为示出采用图7中的版图进行曝光显影后的像素排列的示意图。

图9示出了对黄色亚像素单元进行加热的加热装置的结构示意图。

图10为示出对图8中的像素进行加热后的像素排列的示意图。

图11为根据本发明实施例二的条状结构的黄色亚像素单元模版的设计版图。

图12为示出采用图11中的版图进行曝光显影后的像素排列的示意图。

图13为示出对图12中的像素进行加热后的像素排列的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。