[发明专利]涂层的制造方法及涂层装置

权利要求书

1.一种涂层的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

获得包括SiO₂颗粒的电解反应液；所述获得包括SiO₂颗粒的电解反应液，包括：配置以KOH、Na₂SiO₃、(NaPO₃)₆以及Na₂WO₄组成的去离子水电解液，添加包含SiO₂颗粒的碱性硅溶液和蔗糖到所述去离子水电解液中以获得所述包括SiO₂颗粒的电解反应液；

将第一合金元件浸入盛放有所述电解反应液的电解槽内；

将所述第一合金元件连接于高压直流脉冲电源的阳极，将所述电解槽连接于所述高压直流脉冲电源的阴极；

同时加入正、负向电压，以在所述第一合金元件表面生成复合陶瓷涂层，获得第二合金元件。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述同时加入正、负向电压，以在所述第一合金元件表面生成复合陶瓷涂层，获得第二合金元件之后，还包括：

采用去离子水或蒸馏水对所述第二合金元件进行清洗和吹干。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将第一合金元件浸入盛放有所述电解反应液的电解槽内之前，还包括：

采用超声波技术对所述第一合金元件的表面进行去杂质处理，获得第三合金元件，将所述第三合金元件浸入由H₃PO₄与Al(OH)₃反应得到磷酸二氢铝溶胶的水溶液处理液中以除去所述第三合金元件表面的氧化皮，获得第四合金元件；

将所述第四合金元件用去离子水清洗，并浸入NaOH溶液进行表面碱洗和钝化，得到第五合金元件。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述配置以KOH、Na₂SiO₃、(NaPO₃)₆以及Na₂WO₄组成的去离子水电解液，添加包含SiO₂颗粒的碱性硅溶液和蔗糖到所述去离子水电解液中以获得所述包括SiO₂颗粒的电解反应液，包括：

按重量份计，将3～6份KOH、10～15份Na₂SiO₃、6～10份(NaPO₃)₆以及8～12份Na₂WO₄和去离子水混合，获得去离子水电解液，添加80～150份的包含SiO₂颗粒的碱性硅溶液和60～80份蔗糖到所述去离子水电解液中并搅拌以获得所述包括SiO₂颗粒的电解反应液。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述同时加入正、负向电压，以在所述第一合金元件表面生成复合陶瓷涂层，包括：

同时加入正、负向电压，以在所述第一合金元件表面生成复合陶瓷涂层，其中，电流密度为5～8A/dm²，频率为800～1200Hz，正脉冲的脉宽为20％～50％，正负脉冲比为1:1、1:2或2:1，正负电压比为3:1，处理时间为30～100min。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述碱性硅溶液的pH值为9～10。

7.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述将所述第三合金元件浸入由H₃PO₄与Al(OH)₃反应得到磷酸二氢铝溶胶的水溶液处理液中，包括：

将所述第三合金元件浸入由H₃PO₄与Al(OH)₃反应得到磷酸二氢铝溶胶的水溶液处理液中2～3min。