[发明专利]一种全氟聚醚改性硅烷化合物及其表面处理组合物

权利要求书

1.一种全氟聚醚改性硅烷化合物，其特征在于：其结构如下：

F(CF₂CF₂O)_m(CF₂O)_nCF₂-(CH₂)_a-O-(CH₂)_bC[(CH₂)_cCH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃(1)

其中，m，n为分别独立的数字，为0以上，200以下整数；

a、b、c皆为独立的数字，均为0以上，5以下整数。

2.根据权利要求1所述的全氟聚醚改性硅烷化合物，其特征在于：m，n均为10以上，100以下的整数。

3.根据权利要求1所述的全氟聚醚改性硅烷化合物，其特征在于：a、b、c皆为0以上，3以下的整数。

4.根据权利要求1所述的全氟聚醚改性硅烷化合物，其特征在于：其结构如下：

F(CF₂CF₂O)_m(CF₂O)_nCF₂-CH₂CH₂-OCH₂C[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃(A)

F(CF₂CF₂O)_m(CF₂O)_nCF₂-CH₂CH₂-OCH₂CH₂C[CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃(B)

其中，m，n为分别独立的数字，为0以上，200以下整数。

5.根据权利要求4所述的全氟聚醚改性硅烷化合物，其特征在于：m，n均为10以上，100以下的整数。

6.一种包含权利要求1所述的全氟聚醚改性硅烷化合物的表面处理组合物，其特征在于：包含其总重量的0.1％-20％权利要求1所述全氟聚醚改性硅烷化合物和80％-99.9％的溶剂。

7.根据权利要求6所述的表面处理组合物，其特征在于：所述的溶剂为全氟丁基甲基醚、全氟丁基乙基醚、全氟己基甲基醚、氢氟醚中任意一种。

8.通过涂布权利要求6所述的表面处理组合物获得的薄膜。

9.一种权利要求8所述的薄膜的制备方法，其特征在于：将所述的表面处理组合物稀释至千分之一的固含量浓度稀释液，之后涂布在基材上进行烘烤，冷却后获得所述的薄膜。

10.根据权利要求9所述的薄膜的制备方法，其特征在于：涂布方法为湿式涂布、物理气相沉积或化学气相沉积；

任选的，所述烘烤的温度为80-150℃，烘烤的时间为10-60分钟，冷却终点为室温。

11.一种权利要求8所述的薄膜的用途，其特征在于：用作光学部件的防污层和显示器件的抗指纹层。

12.根据权利要求11所述的薄膜的用途，其特征在于：所述的光学部件包括抗反射膜、光学滤光片、光学镜片、眼镜镜片、分束器、棱镜和反射镜。

13.根据权利要求11所述的薄膜的用途，其特征在于：所述的显示器件包括手机盖片、计算机屏幕、电视屏幕。