[发明专利]一种高硬度哑光陶瓷防污剂及其制备方法

说明书

本发明涉及一种高硬度哑光陶瓷防污剂，是在纳米二氧化硅粒子表面通过改性接枝活性MQ硅树脂而制成；本发明的一种高硬度哑光陶瓷防污剂以MQ硅树脂中无机硅氧烷和纳米二氧化硅为硬链段，在陶瓷表面起填孔和耐磨防滑作用，同时纳米二氧化硅具有疏水防污抗菌效果；另一方面，以MQ硅树脂与高含氢硅油形成的交联网状结构膜为软链段，在抛光过程中隔离抛光轮与瓷砖表面不发生直接弹性接触，因而不会增加瓷砖光泽度，而且克服了现有哑光防污剂存在耐磨性、防污性差的缺点。

技术领域

本发明涉及一种陶瓷防污剂，尤其涉及到一种高硬度哑光陶瓷防污剂及其制备方法，属于陶瓷防污技术领域。

技术背景

瓷砖在烧制过程中由于砖坯或釉面残留的气孔和微小裂纹因而会吸附污染物，现行超洁亮瓷砖通过抛光时添加防污剂填孔解决上述问题。目前国内外超洁亮瓷砖采用较好的防污是纳米防污，即在抛光砖、抛釉砖边面形成一层具有特殊防护功能，且结构稳定的纳米级保护层，主要用于提升陶瓷抛光砖的防污性能，被誉为建陶行业防污技术的革命性突破，但是也大大提高了瓷砖表面的光泽度。

但“超洁亮”由于光泽度较高，存在着较大的光线污染。随着人们生活水平的提高，喷墨渗花哑光砖、全抛釉哑光砖近年来受到人们的重视。

中国专利申请200510035090.9公开一种哑光瓷质抛光砖的生产工艺，包括成型、干燥、烧成和干坯抛光工序，其特征在于：在生产工艺流程中，干坯抛光工序设置在干燥工序之后烧成工序之前，在烧成工序之后增设有研磨工序，其主要生产工艺流程为：成型－干燥－干坯抛光－烧成－研磨；该专利工艺能使抛光砖表面呈现砖体深层布料装饰纹理，并且具有一定的防污、防滑、耐磨性能。

中国专利申请CN201510731705.5公开了一种哑光砖的制备方法，其特征在于，采用含有氟化物的酸性溶液侵蚀砖体的方式，使酸性溶液与砖体表面的成分发生化学反应，从而在砖体表面形成哑光面，能用于各种陶瓷砖的加工，加工方法简单，操作方便，哑光效果、防污性能好。该专利存在酸性有机氟腐蚀砖面的过程，造成砖面的耐磨度降低，造成砖面后期不具备防污能力。

现有哑光砖的生产技术，还是存在着烧制过程中由于砖坯或釉面残留的气孔和微小裂纹因而会吸附污染物的问题；即使采用传统的纳米材料在哑光砖抛光过程中会大大增加瓷砖光泽度，达不到哑光标准；因此在哑光砖生产上迫切需要一种不增加光泽度的哑光防污剂材料。

发明内容

为克服现有技术的缺点和不足，本发明的首要目的提供一种高硬度哑光陶瓷防污剂。

本发明的另一目的提供一种高硬度哑光陶瓷防污剂的制备方法。

本发明所述的一种高硬度哑光陶瓷防污剂，由硬链段和软链段组成；所述的硬链段为MQ硅树脂分子中的无机硅氧烷与纳米二氧化硅组成的链段，所述的软链段为MQ硅树脂与高含氢硅油形成的交联网状分子结构组成的链段。

所述高硬度哑光陶瓷防污剂，其分子结构式如下所示：

本发明所述的高硬度哑光陶瓷防污剂是在纳米二氧化硅粒子表面通过改性接枝活性MQ硅树脂而制成，其制备方法如下：

a)、水解：在反应釜中，按重量份依次加1.0～5.0份去离子水、1.0～5.0份冰乙酸、100.0份乙醇，搅拌并控制温度在30～50℃，滴加由100.0份M单元原料和30.0～50.0份Q单元原料，在0.5～2h内滴加完毕；然后在常温下搅拌反应12h后，加入100.0份非极性溶剂或弱极性溶剂进行萃取，除去水层，得MQ硅树脂预聚物；

b)、交联：将上述MQ硅树脂预聚物升温至60～100℃，加入10.0～30.0份高含氢硅油，继续反应3～6h，得活性MQ硅树脂；