[发明专利]一种基于石墨烯微圆柱阵列的柔性薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201710770399.5 | 申请日： | 2017-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN107556508B | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | 刘爱萍;钱巍;吴化平;李敏 | 申请（专利权）人： | 浙江理工大学 |
| 主分类号： | C08J7/06 | 分类号： | C08J7/06 |
| 代理公司： | 33200 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人： | 黄欢娣;邱启旺 |
| 地址： | 310018 浙江省杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 石墨烯 微柱阵列 制备 等离子体 二甲基氯化铵 微阵列结构 可重复性 溶液浸泡 柔性薄膜 疏水处理 微纳加工 圆柱阵列 硅模板 聚二烯 微阵列 浇注 滴涂 可控 刻蚀 薄膜 固化 铺展 清洗 剥离 侧面 | ||
1.一种基于石墨烯微圆柱阵列的柔性薄膜的制备方法，其特征在于，步骤如下：
(1)构建具有微圆柱阵列的PDMS基底，所述微圆柱的高度为20μm，长径比为1～2.5；
(2)将具有微阵列的PDMS置于等离子体刻蚀仪中，用等离子体氧处理10-15min，随后将PDMS浸泡于质量浓度为5wt％的PDDA溶液(聚二烯二甲基氯化铵溶液)中30-60min，然后用去离子水洗涤，再置于40℃烘箱中干燥；
(3)滴涂0.3mg/ml的石墨烯溶液，滴涂的量为200-467μl/cm2，40℃环境下干燥，得到柔性微柱阵列石墨烯基薄膜。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述微圆柱的间距与直径的比值为0.8～2.5。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述具有微圆柱阵列的PDMS基底通过以下步骤获得：
(1.1)用硫酸和双氧水按体积比3:1在90℃水浴条件下处理具有微阵列的硅模板1h，之后用去离子水清洗并干燥；
(1.2)将硅模板置于93wt％正庚烷、2wt％十八烷基三甲氧基硅烷和5wt％乙酸乙酯混合溶液中浸泡1h，之后用正庚烷对硅模板进行涮洗，最后将硅模板置于100℃～120℃的烘箱中干燥1h；
(1.3)按照质量比为10:1的量称取二甲基硅氧烷与交联剂置于烧杯中，搅拌20min，真空除气泡，将其倒置于具有微阵列的模板上，再次真空除气泡，随后置于80℃鼓风干燥箱中90min固化PDMS，之后将PDMS从硅模板上剥离，得到具有微圆柱阵列的PDMS基底。
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