[发明专利]离合器装置有效
申请号: | 201710776999.2 | 申请日: | 2017-09-01 |
公开(公告)号: | CN107795600B | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | P·卡尔;O·布克;M·默克尔 | 申请(专利权)人: | 舍弗勒技术股份两合公司 |
主分类号: | F16D13/60 | 分类号: | F16D13/60;F16D13/62;F16F15/32;F16D25/10;G01M1/34 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 侯鸣慧 |
地址: | 德国黑措*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 离合器 装置 | ||
1.离合器装置,其包括多个绕共同的旋转轴线旋转的离合器元件,为了操纵所述离合器,所述离合器元件能形成相互地作用连接,其特征在于,在装配该离合器装置之前,对每个离合器元件测量不平衡度,在至少一个所述离合器元件上设置有用于不平衡度补偿的至少一个补偿钻孔(23),设置有多个分布地定位的补偿钻孔(23),设置有2x n个补偿钻孔(23),其中,n≥2,其中两个或者多倍的两个补偿钻孔(23)位于相同的半径(r)上,并且,多个补偿钻孔(23)设置在不同的半径(r)上,作为离合器元件设置:具有所配属的外离合器片(7,11)的外离合器片支架(8,12)和具有所配属的内离合器片(9)的内离合器片支架(10),形成离合器片组;用于将操纵力导入所述离合器片组中的操纵元件(15);和构建抵抗所述操纵力的回位力的回位元件(17),其中,在至少一个离合器元件上设置有所述至少一个补偿钻孔(23),其中,在所述外离合器片支架(8,12)上设置至少一个补偿钻孔。
2.根据权利要求1所述的离合器装置,其特征在于,所述至少一个补偿钻孔(23)设置在所述离合器元件的径向延伸区段(21)上。
3.根据权利要求1或2所述的离合器装置,其特征在于,所述补偿钻孔(23)为贯通钻孔(24)或者盲孔(28)。
4.根据权利要求1或2所述的离合器装置,其特征在于,所述补偿钻孔(23)在一侧或者两侧上具有倒角(27)。
5.根据权利要求3所述的离合器装置,其特征在于,位于相同的半径(r)上的补偿钻孔(23)具有相同或者不同的直径,并且在盲孔(28)的情况下具有相同或者不同的深度,其中,位于不同的半径(r)上的补偿钻孔(23)的直径和/或深度也能相同或者不同。
6.根据权利要求1或2所述的离合器装置,其特征在于,所述离合器装置为双离合器,包括两个子离合器(2,3),
-或者,作为离合器元件,所述子离合器分别具有:带有所配属的外离合器片(7,11)的外离合器片支架(8,12)和具有所配属的内离合器片(9,13)的内离合器片支架(10,14),形成离合器片组;用于将操纵力导入所述离合器片组中的操纵元件(15,16);和构建抵抗所述操纵力的回位力的回位元件(17,18),其中,所述子离合器(2,3)在径向上嵌套设置,并且,其中,在径向较外置的子离合器(2)的至少一个所述离合器元件上设置有所述至少一个补偿钻孔(23),
-或者,作为离合器元件,所述子离合器分别具有:带有所配属的外离合器片的共同的外离合器片支架和带有所配属的内离合器片的相应的内离合器片支架,形成离合器片组;用于将操纵力导入所述离合器片组中的操纵元件;和构建抵抗所述操纵力的回位力的回位元件,其中,所述子离合器在轴向上相继设置,并且,其中,在所述子离合器的至少一个所述离合器元件上设置有所述至少一个补偿钻孔。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于舍弗勒技术股份两合公司,未经舍弗勒技术股份两合公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710776999.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。