[发明专利]一种水下多相流量计放射源安装结构

权利要求书

1.一种水下多相流量计放射源安装结构，其特征在于：包括流量计管体，其内部设置有流体计量通道，所述流量计管体的外侧壁上设置有与所述流量计管体的轴线平行的平面区域，所述流量计管体内设置有垂直于所述平面区域的放射源安装腔，所述放射源安装腔内设置有放射源组件。

2.如权利要求1所述的一种水下多相流量计放射源安装结构，其特征在于：所述放射源安装腔底部设置有三级阶梯孔，其包括第一盲孔、设置在所述第一盲孔底部的第二盲孔和设置在所述第二盲孔底部的第三通孔，所述第三通孔与所述流体计量通道连通。

3.如权利要求2所述的一种水下多相流量计放射源安装结构，其特征在于：所述放射源组件包括顶端开口底端封闭呈筒状的陶瓷垫，在所述陶瓷垫的开口端面处平齐设置有陶瓷密封环，所述陶瓷密封环的底端面与所述第一盲孔的底面相接触，所述陶瓷垫的外侧壁与所述第三通孔侧壁相配合，所述陶瓷垫的封闭端设置有与所述流体计量通道半径相同的圆弧槽，其与所述流体计量通道的内壁相配合，；所述陶瓷垫的上端设置有呈倒阶梯轴结构的准直芯，其包括圆盘、设置在所述圆盘下端的大凸台和设置在所述大凸台的下端的小凸台，所述准直芯的轴心设置有准直通孔，所述大凸台的侧壁与所述第一盲孔的侧壁相配合，所述大凸台的下端面与所述陶瓷密封环的上端面接触，所述小凸台的侧壁与所述陶瓷垫的内壁相配合，所述准直芯的下端面与所述陶瓷垫的内底面之间留有间距，所述准直芯的上端设置有呈倒圆台状的放射源，所述准直芯的上端面与所述放射源的下端面接触，所述放射源下端面设置有一盲孔，所述盲孔中设置有放射源口。

4.如权利要求3所述的一种水下多相流量计放射源安装结构，其特征在于：在所述平面区域上设置有外防护罩，在所述平面区域上设置有第一密封环，所述外防护罩下端设置有与所述第一密封环相对应的第二密封环，所述第一密封环和所述第二密封环对接形成防护罩环形密封腔室，在该所述防护罩环形密封腔室内设有外防护罩密封圈。

5.如权利要求4所述的一种水下多相流量计放射源安装结构，其特征在于：所述放射源的顶端与所述外防护罩底部的圆形凹槽相配合，所述外防护罩通过螺栓紧固连接设置在所述平面区域上。

6.如权利要求3所述的一种水下多相流量计放射源安装结构，其特征在于：在所述放射源安装腔中的侧壁与所述陶瓷密封环的外侧壁之间设置有径向密封圈，在所述陶瓷密封环的下端面与所述放射源安装腔的端面之间设置有轴向密封圈。

7.如权利要求1所述的一种水下多相流量计放射源安装结构，其特征在于：在所述流体计量通道中设置文丘里管，所述文丘里管通过固定在其一端的连接法兰嵌套设置在所述流体计量通道中。

8.如权利要求1所述的一种水下多相流量计放射源安装结构，其特征在于：在所述流量计管体的外侧壁上径向设置有探测器组件，所述探测器组件连接有电子仓组件，所述放射源组件与所述探测器组件在同一径向线上，所述流量计管体上还安装有差压传感器组件和温压传感器组件。

9.如权利要求7所述的一种水下多相流量计放射源安装结构，其特征在于：所述连接法兰通过螺纹连接件固定在所述流量计管体上。