[发明专利]基于“梳齿式”微流通道的SU‑8原子气室制备方法在审
申请号: | 201710779296.5 | 申请日: | 2017-09-01 |
公开(公告)号: | CN107621776A | 公开(公告)日: | 2018-01-23 |
发明(设计)人: | 张彦军;闫树斌;李云超;张亮 | 申请(专利权)人: | 中北大学 |
主分类号: | G04F5/14 | 分类号: | G04F5/14 |
代理公司: | 太原科卫专利事务所(普通合伙)14100 | 代理人: | 朱源 |
地址: | 030051 山*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 梳齿 流通 su 原子 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及芯片级原子钟原子气室的制备方法,具体为基于“梳齿式”微流通道的SU-8原子气室制备方法。
背景技术
导航、定位、授时(Positioning Navigation & Timing,PNT)是确定时间和空间的关键技术。全球卫星导航系统(Global Navigation Satellite System,GNSS)在国民经济建设和军事领域中极其重要,是综合国力和国际地位的战略标志。而芯片级原子钟是Micro PNT系统的“时空敏感”芯片,由于采用了CPT技术,其物理部分不需要谐振微波腔,可以进一步简化结构,具有精度高、体积小、功耗低的特点,在导航、通信和时频设备中具有广泛的用途。为了在新一轮的国际竞争中能够占有一定的地位,针对信息化战争中受限条件下定位、导航、授时的需求背景,构建基于北斗导航系统、微纳卫星的服务于国防建设的Micro PNT系统,有必要集中精力在芯片级原子钟技术方面取得突破性的进展。
芯片级原子钟最核心的是原子气室的制备,传统的原子气室通常采用“玻璃-硅-玻璃”的三层结构,这种传统的三明治结构为碱金属原子提供了两个光学窗口,可以确保光线顺利通过气室内部,并和其中的碱金属原子产生作用。但这种结构需要两次键合,制作工艺复杂,成本高,而且硅、玻璃键合温度较高,伴随着密封性和可靠性的问题。同时,这种堆叠结构的碱金属原子气室使空间难以被充分利用,增大了物理系统的体积,给原子钟的微型化带来了困难。因此,急需一种新的芯片原子钟微型原子气室的制备方法。
发明内容
本发明为了解决“玻璃-硅-玻璃”常规原子气室信噪比差、密封性不佳、制作工艺复杂等技术瓶颈问题,提出一种基于低温热键合工艺的SU-8聚合物制备同质原子气室的方法;同时,针对化学反应法制备铷单质时微流通道易堵塞的问题,提出“梳齿式”的微流通道的设计思想。
本发明是采用如下的技术方案实现的:基于“梳齿式”微流通道的SU-8原子气室制备方法,包括气室键合层基底的制作、“梳齿式”微流通道半封闭原子气室的制作、化学反应物的填充、气室热键合和化学反应生成元素,
其中气室键合层基底的制作包括以下步骤:
(1)将PDMS硅橡胶与固化剂按8:1的比例分别使用注射器抽取并注入到烧杯中完全混合,搅拌均匀,使PDMS硅橡胶与固化剂充分混合;
(2)将充分混合的PDMS混合液静置30min后放入真空干燥箱,去除混合后产生的气泡,逐渐降低真空干燥箱中的气压,当气压降到-0.05MPa时,等待30秒,然后继续降低真空干燥箱中的气压,当真空度达到-0.01MPa 时,等待10分钟,抽真空完毕;
(3)将抽好真空的 PDMS混合液缓慢浇铸在清洗干净的硅片上,静置10分钟;然后将硅片放到真空干燥箱里继续抽真空10分钟,直至完全去除掉倾倒的过程中产生的气泡;
(4)将抽好真空的硅片放入烘箱,设定固化温度在70-90℃之间,持续加热两小时并恒温保持至完全固化,等待至完全冷却后将PDMS从硅片上撕下即可得到所需的PDMS键合层基底(1);
“梳齿式”微流通道半封闭原子气室的制作包括以下步骤:
(1)掩膜板的制作:利用L-edit软件,设计气室的平面尺寸与梳齿式微流通道的几何参数;
(2)匀胶:通过匀胶机将SU-8光刻胶旋涂于PDMS键合层基底(1)上,旋涂厚度700μm,旋涂时间9-15s、转速800rad/min;旋涂完成后静置半小时以上,利用SU-8光刻胶自平整能力使表面更加平整,得到SU-8光刻胶层(2),将SU-8光刻胶层(2)和PDMS键合层基底(1)分离;
(3)前哄:静置结束之后前烘,将SU-8光刻胶层(2)置于烘箱中进行前烘处理,采用阶梯烘的方式升高温度,先将温度升高到 65℃,保持30min,然后将温度升高至 95℃保持6小时;前烘完之后降温,在65℃保持约30min,然后随烘箱冷却,避免温度骤变导致SU-8光刻胶层(2)应力过大;
(4)曝光:结合微型原子气室的三维尺寸及光刻胶对不同波段的光的吸收率,采用400nm紫外光通过掩膜版对SU-8光刻胶层(2)进行分次曝光,每次曝光120s,间隔30s,每次曝光剂量不大于400mJ/cm2,光刻去除SU-8光刻胶层(2)上气室与“梳齿式”微流通道部分的胶层,即在SU-8光刻胶层(2)上得到第一气室、第二气室和连接第一气室与第二气室的“梳齿式”微流通道;
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