[发明专利]一种半导体激光器光谱合束系统

权利要求书

1.一种半导体激光器光谱合束系统，其特征在于，应用于具有多个半导体激光器的激光系统，每个所述半导体激光器的第二出射面和第一出射面表面具有减反膜，所述半导体激光器光谱合束系统包括：第一准直模块、第二准直模块、傅里叶变换透镜、衍射光栅、滤模结构和输出耦合镜；其中，

所述第二准直模块、傅里叶变换透镜和衍射光栅依次排布于所述半导体激光器的第二出射面一侧；

所述第一准直模块和输出耦合镜依次排布于所述半导体激光器的第一出射面一侧；

所述准直模块用于对所述半导体激光器的出射激光进行准直处理；

所述傅里叶变换透镜用于对经过准直处理的激光进行傅里叶变换处理；

所述衍射光栅的中心光轴与所述傅里叶变换透镜的中心光轴成预设角度设置，以使经过傅里叶变换处理后的激光在所述衍射光栅的入射角与所述衍射光栅的衍射角相等，所述衍射光栅用于将所述半导体激光器第二出射面出射的激光锁定在预设波长，并沿原光路返回，以与所述半导体激光器第一出射面出射的激光合束后形成待处理激光；

所述滤模结构用于滤掉所述待处理激光中的预设模式，以提升激光质量所述输出耦合镜用于对入射的待处理激光进行处理后出射，以获得出射激光。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第一准直模块包括N个子准直单元，所述第二准直模块包括N个子准直单元；

所述子准直单元包括沿所述半导体激光器出射面中心光轴依次设置的快轴准直镜和慢轴准直镜；

所述快轴准直镜背离所述半导体激光器一侧表面具有减反膜；

所述慢轴准直镜背离所述半导体激光器一侧表面具有减反膜；

N等于所述半导体激光器的数量，一个所述准直模块中的子准直单元与一个所述半导体激光器相对应。

3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述快轴准直镜、慢轴准直镜的两侧表面均具有减反膜；

所述输出耦合镜朝向所述半导体激光器一侧表面具有减反膜，所述输出耦合镜背离所述半导体激光器一侧表面具有反射膜。

4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，还包括：反射镜；

所述反射镜的反射面朝向所述衍射光栅设置，用于反射所述衍射光栅的0级衍射光，以使所述0级衍射光原光路返回。

5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述反射镜的反射膜的反射率满足激光起振要求。

6.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述滤模结构包括：D型反射镜和空间滤波器；其中，

所述D型反射镜朝向所述第一准直模块设置，所述空间滤波器设置于所述D型反射镜背离所述第一准直模块一侧。

7.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述滤模结构包括：平行设置的第一光栅和第二光栅；

所述第一光栅和第二光栅的衍射面相对设置，所述半导体激光器第一出射面出射的激光经过准直处理后，依次经过所述第一光栅和第二光栅的反射滤模后向所述输出耦合镜出射。

8.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述滤模结构包括：D型反射镜、空间滤波器、第一光栅和第二光栅；其中，

所述反射镜和空间滤波器的中心光轴重合，所述第一光栅和第二光栅的衍射面相对且平行设置；

所述半导体激光器第一出射面的激光经过准直处理后，依次经过所述第一光栅、第二光栅的反射滤模，以及所述D型反射镜和空间滤波器的滤模处理后向所述输出耦合镜出射。

9.根据权利要求7或8所述的系统，其特征在于，所述第一光栅为反射型光栅或衍射型光栅；

所述第二光栅为反射型光栅或衍射型光栅。