[发明专利]用于元素分析光谱仪的改良的样品制备设备和方法

权利要求书

1.一种用于元素分析系统的样品制备设备，尤其是EA-IRMS，包含：

样品燃烧和/或还原和/或热解安排，用于接收待分析材料的样品并由其产生含有原子、分子和/或化合物的样品气流；

所述样品气流被引导到其中的气相色谱(GC)柱；

用于加热所述GC柱的至少一部分的加热器；以及

用于控制所述加热器的控制器；

所述控制器被配置成用于控制所述加热器，以便在所述样品气流在所述GC柱中洗脱的同时升高所述GC柱的至少所述部分的温度。

2.根据权利要求1所述的样品制备设备，另外其中所述控制器被配置成用于控制所述加热器，以使得在原子、分子或化合物中的第一批一个或多个物种已通过所述GC柱之后，升高所述GC柱的至少所述部分的温度。

3.根据权利要求1或2所述的样品制备设备，其中所述控制器被配置成用于控制所述加热器，以使得温度在起始温度T_起始与最终温度T_最终之间基本上线性地改变。

4.根据权利要求1或2所述的样品制备设备，其中所述控制器被配置成用于控制所述加热器，以使得温度在起始温度T_起始与最终温度T_最终之间基本上非线性地改变。

5.根据权利要求1或2所述的样品制备设备，其中所述控制器被配置成用于控制所述加热器，以使得所述温度改变在起始温度T_起始与最终温度T_最终之间是部分线性的和部分非线性的。

6.根据权利要求1所述的样品制备设备，另外其中所述控制器被配置成用于控制所述加热器，以使得在原子、分子或化合物中的第一批一个或多个物种已通过所述GC柱之后，在第一温度范围(T₂-T_起始)内升高所述GC柱的至少所述部分的温度，并且其中T₂>T_起始。

7.根据权利要求6所述的样品制备设备，其中所述控制器被配置成用于控制所述加热器，以使得在原子、分子或化合物中的第一批一个或多个物种已通过所述GC柱之后，在所述第一温度范围(T₂-T_起始)内，基本上线性地或基本上非线性地升高所述GC柱的至少所述部分的温度，或线性的和非线性的温度改变。

8.根据权利要求1、权利要求6或权利要求7所述的样品制备设备，另外其中所述控制器被配置成用于控制所述加热器，以使得在原子、分子或化合物中的第二批一个或多个物种通过所述GC柱之前，在第二温度范围(T_最终-T₂)内改变所述GC柱的至少所述部分中的温度，并且其中T_最终>T₂。

9.根据权利要求8所述的样品制备设备，其中所述控制器被配置成用于控制所述加热器，以使得在原子、分子或化合物中的第二批一个或多个物种通过所述GC柱之前，在所述第二温度范围(T_最终-T₂)内，基本上线性地或基本上非线性地改变温度，或线性的和非线性的温度改变。

10.根据前述权利要求中任一项所述的样品制备设备，其中所述样品和/或还原和/或热解安排产生N₂、CO₂或N₂、CO₂和SO₂。

11.根据从属于权利要求2到9中任一项的权利要求10所述的样品制备设备，其中所述GC柱中的分子或化合物中的所述第一批一个或多个物种包含N₂和CO₂。

12.根据从属于权利要求2到5、8或9中任一项的权利要求10所述的样品制备设备，其中所述GC柱中的分子或化合物中的所述第二批一个或多个物种包含SO₂。