[发明专利]图案曝光装置、曝光头以及图案曝光方法

权利要求书

1.一种图案曝光装置，其包括：

保持部，用于保持感光材料；

曝光头，用于向所述感光材料输出图案光；

测量部，用于测量被所述保持部保持的所述感光材料的位置；以及

聚焦控制部，根据所述感光材料的位置，对所述图案光的成像位置进行调节，其中，

所述曝光头具备：

空间光调制器，所述空间光调制器具有多个调制元件，所述多个调制元件对从光源输出的光进行空间光调制而形成图案光；

第一成像光学系统，具有第一透镜和第二透镜，所述第一透镜和所述第二透镜配置在从所述空间光调制器输出的图案光的光路上，所述第二透镜为像侧远心型；

微透镜阵列，所述微透镜阵列具有多个微透镜，所述多个微透镜对穿过所述第一成像光学系统的所述第二透镜的所述图案光进行聚焦；

第二成像光学系统，配置在穿过所述微透镜阵列的所述图案光的光路上，使所述图案光进行成像；以及

透镜移动部，用于使所述第二透镜和所述微透镜阵列在接近或远离所述第一透镜的方向上进行移动，

所述聚焦控制部通过控制所述透镜移动部的动作来调节所述图案光的所述成像位置，

所述第二透镜和所述微透镜阵列固定在所述透镜移动部上，所述透镜移动部 使所述第二透镜和所述微透镜阵列一体地移动。

2.根据权利要求1所述的图案曝光装置，其中，

所述第二成像光学系统是两侧远心型。

3.根据权利要求1或2所述的图案曝光装置，其中，

所述第一成像光学系统是以大于一倍的横向放大倍率进行成像的放大光学系统。

4.根据权利要求3所述的图案曝光装置，其还包括曝光头支撑部，

所述曝光头支撑部以将多个所述曝光头排列的状态支撑多个所述曝光头。

5.根据权利要求1或2所述的图案曝光装置，其中，

所述第二成像光学系统是以大于第一成像光学系统的横向放大倍率的横向放大倍率进行成像的放大光学系统。

6.一种曝光头，其为用于输出图案光的曝光头，其包括：

空间光调制器，所述空间光调制器具有多个调制元件，所述多个调制元件对从光源输出的光进行空间光调制而形成图案光；

第一成像光学系统，具有第一透镜和第二透镜，所述第一透镜和所述第二透镜配置在从所述空间光调制器输出的图案光的光路上，所述第二透镜是像侧远心型；

微透镜阵列，所述微透镜阵列具有多个微透镜，所述多个微透镜对穿过所述第一成像光学系统的所述第二透镜的所述图案光进行聚焦；

两侧远心型第二成像光学系统，配置在穿过所述微透镜阵列的所述图案光的光路上，使所述图案光进行成像；以及

透镜移动部，用于使所述第二透镜和所述微透镜阵列在接近或远离所述第一透镜的方向上进行移动，

所述第二透镜和所述微透镜阵列固定在所述透镜移动部上，所述透镜移动部 使所述第二透镜和所述微透镜阵列一体地移动。

7.一种图案曝光方法，其包括：

用于保持感光材料的(a)工序；

向所述感光材料输出图案光的(b)工序；

用于测量所述感光材料的位置的(c)工序；以及

根据所述(c)工序中测量的所述感光材料的位置，对所述(b)工序中的所述图案光的成像位置进行调节的(d)工序，

所述(b)工序包括：

通过多个调制元件来对从光源输出的光进行空间光调制而形成所述图案光的(b-1)工序；

通过第一成像光学系统使所述图案光进行成像的(b-2)工序，所述第一成像光学系统包括配置在所述图案光的光路上的第一透镜和第二透镜，并且所述第二透镜是像侧远心型；

通过具有多个微透镜的微透镜阵列对所述(b-2)工序中的从所述第一成像光学系统的所述第二透镜输出的所述图案光进行聚焦的(b-3)工序；以及

通过第二成像光学系统使所述(b-3)工序中的穿过所述微透镜阵列的所述图案光进行成像的(b-4)工序，

所述(d)工序包括：

使所述第二透镜和所述微透镜阵列在接近或远离所述第一透镜的方向上进行移动的(d-1)工序，

所述第二透镜和所述微透镜阵列固定在透镜移动部上，所述透镜移动部 使所述第二透镜和所述微透镜阵列一体地移动。