[发明专利]半导体存储装置有效

专利信息
申请号: 201710796900.5 申请日: 2017-09-06
公开(公告)号: CN108630249B 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: 松岡史宜;藤田胜之 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: G11C5/14 分类号: G11C5/14;G11C7/10
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勋
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 存储 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体存储装置,其特征在于具备:

电源垫;

金属层;

第1存储体,具备:第1存储器阵列以及在所述第1存储器阵列的第1侧的第1周边电路;

第2存储体,具备:第2存储器阵列以及在所述第2存储器阵列的第1侧的第2周边电路,且所述第1存储体在第1方向上位于所述电源垫与所述第2存储体之间;

在所述金属层中的多个第1电源供给配线,在与所述第1方向交叉的第2方向上彼此隔开,所述多个第1电源供给配线的各个在所述第1方向上越过所述第1存储器阵列地延伸而到达所述第1周边电路,并将所述电源垫与所述第1周边电路连接,所述多个第1电源供给配线未到达所述第2周边电路;

在所述金属层中的多个第2电源供给配线,在所述第2方向上彼此隔开,所述多个第2电源供给配线的各个在所述第1方向上越过所述第1存储器阵列、所述第1周边电路及所述第2存储器阵列地延伸而到达所述第2周边电路,并将所述电源垫与所述第2周边电路连接,所述多个第2电源供给配线在所述金属层中位于在所述第2方向上从所述多个第1电源供给配线的位置偏移的位置;以及

在所述金属层中的多个第3电源供给配线,在所述第2方向上彼此隔开,所述多个第3电源供给配线的各个在所述第1方向上越过所述第2存储器阵列地延伸而到达所述第2周边电路,所述多个第3电源供给配线和所述多个第2电源供给配线以及所述第2周边电路电连接,所述多个第3电源供给配线的位置在所述第2方向上从所述多个第2电源供给配线的所述位置偏移,所述多个第3电源供给配线分别在所述第2方向上和所述多个第1电源供给配线的所述位置对齐。

2.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于:所述金属层中的所述多个第1电源供给配线的总数少于所述金属层中的所述多个第2电源供给配线的条数和所述金属层中的所述多个第3电源供给配线的条数的加总。

3.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于:

所述多个第1电源供给配线在与所述金属层的面正交的第3方向上位于所述第1存储体的上方;且所述多个第2电源供给配线在所述第3方向上位于所述第1存储体以及所述第2存储体的上方;且

所述多个第3电源供给配线在所述第3方向上位于所述第2存储体的上方,但不位于所述第1存储体的上方。

4.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于还具备:

第1电源供给电路,设置在所述电源垫与所述多个第1电源供给配线之间;及

第2电源供给电路,设置在所述电源垫与所述多个第2电源供给配线之间。

5.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于还具备:

多个第1电源供给电路,各自设置在所述电源垫与所述多个第1电源供给配线的相应一个之间;及

多个第2电源供给电路,各自设置在所述电源垫与所述多个第2电源供给配线的相应一个之间。

6.一种半导体存储装置,其特征在于具备:

第1电源垫;

第2电源垫;

金属层,包含:多个第1电源供给配线、多个第2电源供给配线以及多个第3电源供给配线;

第1存储体,具备多个存储单元以及第1周边电路;以及

第2存储体,具备多个存储单元以及第2周边电路,所述第1存储体在与所述金属层平行的第1方向上位于所述第1及第2电源垫与所述第2存储体之间;

所述金属层在与所述金属层的面正交的第2方向上位于所述第1及第2存储体的上方;

所述多个第1电源供给配线连接在所述第1电源垫,对所述第1周边电路供给电源,但不对所述第2周边电路供给电源;

所述多个第2电源供给配线连接在所述第2电源垫,通过所述第1存储体及所述第2存储体的上方,对所述第2周边电路供给电源,但不对所述第1周边电路供给电源;且

所述多个第3电源供给配线在所述第2存储体的上方但不在所述第1存储体的上方,并通过所述多个第2电源供给配线而和所述第2电源垫电连接,对所述第2周边电路供给电源,但不对所述第1周边电路供给电源。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于铠侠股份有限公司,未经铠侠股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710796900.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top