[发明专利]一种温度控制设备、原位反应器及其应用

权利要求书

1.一种温度控制设备，包括：至少一个第一温控系统、至少一个第二控温系统以及控制模块，通过控制模块的信号，控制所述至少一个第一温控系统和至少一个第二温控系统，实现从室温以下到室温以上的温度区间的控制；优选所述温度区间为0℃以下至室温以上，更优选所述温度区间为-196℃至1000℃。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述至少一个第一温控系统包括温度传感器以及控温加热装置；所述温度传感器接收来自控制模块的信号，从而控制控温加热装置的热量输出。

3.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述至少一个第二温控系统包括温度传感器、低温阀和冷源装置。

4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述低温阀为自动低温阀，选自电动低温调节阀、气动低温调节阀和低温电磁阀中的至少一种。

5.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述冷源装置包括冷剂储罐和冷剂流动传输装置。

6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述低温阀接收来自控制模块的信号，控制冷剂从所述储罐中流出，并控制冷剂在冷剂流动传输装置中的循环流动。

7.根据权利要求6所述的设备，其特征在于，所述冷剂为液氮、干冰和液氦中的至少一种；所述冷剂在压力的作用下从所述储罐中流出，优选所述压力可通过低温泵驱动增压、加热自增压和通入惰性气增压中的至少一种获得。

8.一种原位反应器，包括样品区和权利要求1-7中任意一项所述的温度控制设备，通过所述温度控制设备对样品区进行温度控制。

9.根据权利要求8所述的反应器，其特征在于，所述控制模块控制所述第一温控系统对样品区的热量输出以及所述第二温控系统对样品区的制冷量输出；优选所述控制模块可控制至少一个第二温控系统中的冷剂能够沿着所述样品区的沟槽进行循环流动。

10.根据权利要求1-7中任意一项所述设备或权利要求8或9所述的原位反应器在催化原位表征中的应用，优选在原位红外光谱表征、原位紫外-可见光谱表征、原位拉曼表征、原位XAFS表征中的应用。