[发明专利]一种共掺杂类金刚石薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种共掺杂类金刚石薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、选用0.3-0.5mm的超白玻璃为衬底材料；

步骤二、对衬底材料进行超声波清洗；

步骤三、设置W靶材和C靶材，W靶材和C靶材相交是设置，且两靶材的交点位于样品架处；

步骤四、把清洗后的超白玻璃衬底放置于样品架上；

步骤五、使用Ar离子轰击W、C两靶材，达到清洗和活化靶材的作用；

步骤六、把清洗后的衬底材料放入真空度抽至3.0×10^-4—5.0×10^-4Pa的溅射腔室内，通入氩气进行预溅射起辉，同时再通入氮气。

2.根据权利要求1所述的一种共掺杂类金刚石薄膜的制备方法，其特征在于：所述衬底材料为0.4mm的超白高透玻璃。

3.根据权利要求1所述的一种共掺杂类金刚石薄膜的制备方法，其特征在于：所述W靶材和所述C靶材与水平面都成45°交角。

4.根据权利要求1或3所述的一种共掺杂类金刚石薄膜的制备方法，其特征在于：所述W靶材和所述C靶材的功率能够单独调节。

5.根据权利要求1所述的一种共掺杂类金刚石薄膜的制备方法，其特征在于：所述薄膜的整个制备过程中保持所述W靶材和所述C靶材的基距，以及衬底转速不变。

6.根据权利要求1所述的一种共掺杂类金刚石薄膜的制备方法，其特征在于：步骤二采用丙酮、酒精和去离子水分别对所述衬底材料进行超声波清洗，以达到去除衬底表面杂质和油污的目的，清洗后用热风吹干。

7.根据权利要求1所述的一种共掺杂类金刚石薄膜的制备方法，其特征在于：步骤六中在通入氩气后，让两靶材空烧一段时间，除表面的杂质以及氧化物。

8.根据权利要求1所述的一种共掺杂类金刚石薄膜的制备方法，其特征在于：步骤六中所述溅射腔室的真空度为4.0×10^-4Pa。

9.根据权利要求1所述的一种共掺杂类金刚石薄膜的制备方法，其特征在于：步骤六中溅射起辉的电源为直流电源，进行溅射镀膜时，W靶材和C靶材的工艺参数为：两靶材功率都为20—50W，氩气与氮气的流量比例为3:1—16:1，具体的为氩气10—40sccm、氮气2—10sccm，工作气压为0.2—2.0Pa，溅射时间10—60s。