[发明专利]一种利用光刺激响应物质修饰形状记忆聚合物进行表面浸润性调控的方法

说明书

一种利用光刺激响应物质修饰形状记忆聚合物进行表面浸润性调控的方法，涉及一种对材料的表面实现浸润性调控的方法。所述方法步骤如下：(1)使用光刻法对硅片进行刻蚀；(2)利用PDMS对硅片进行赋形；(3)利用PDMS进行形状记忆环氧树脂微阵列的赋形；(4)制备CF3AZO；(5)形状记忆环氧树脂微阵列表面接枝CF3AZO；(6)利用(5)制得的样品进行表面浸润性调控。本发明的优点是首次将表面微观结构调控与表面光响应分子相结合，通过物理调控和化学调控协同作用，首次实现了同一表面的浸润性从超亲水到超疏水的可控转化，得到的材料可用于智能器件，如药物精确释放、化学阀门等，是一种全新的响应表面制备技术。

技术领域

本发明涉及一种对材料的表面实现浸润性调控的方法。

背景技术

21世纪，智能材料将会成为人们生活和生产中所运用的主导材料。这些年来科研工作者对智能材料的应用进行了大量的研究并取得了飞速的发展。所谓的响应性材料，即智能材料，是在近几年发展起来的一类新型功能材料，它们能够对外界环境中的微小刺激信号如光照、温度、pH、离子强度以及机械力强度等的变化产生快速反应，在结构和物理、化学性能上产生突变，这种材料被广泛应用于化学和生物传感器、药物控释材料、组织工程等方面。由于刺激响应性材料在药物释控、化学催化和生物工程等各个领域有着广泛的应用前景，尤其是在将来必将成为药物治疗的新手段，在智能给药系统中备受关注，因此对刺激响应性材料的研究成为了一个热门的课题。随着我们合成技术的不断进步以及研究测试手段的提高，已经能够将含有环境响应性的官能团引入到一个大分子上，用于改善该高分子的智能响应性行为、可降解性和生物相容性等基本性质，以此来扩展智能响应性材料在各个领域的应用范围。目前，国内外的化学研究人员利用活性聚合法(RAFT、ATRP等)和多种高效的有机化学反应(点击化学等反应)已经制备了大量具有不同结构和功能的刺激响应性高分子材料。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有的表面浸润性的可控调控的技术问题，提供一种利用光刺激响应物质修饰形状记忆聚合物进行表面浸润性调控的方法。光刺激响应物质是指一类在不同波长的光照下，表面分子会发生改变，从而表面实现从亲水到疏水的变化，本发明中使用的环氧树脂微阵列具有优异的形状记忆效应，将光刺激响应物质修饰到环氧树脂微阵列表面，即将物理的形貌调控和化学调控很好的结合起来，实现很好的浸润性调控。

为实现上述目的，本发明采取的技术方案如下：

一种利用光刺激响应物质修饰形状记忆聚合物进行表面浸润性调控的方法，所述方法包括以下步骤：

步骤一：使用光刻法对硅片进行刻蚀，使硅片表面呈现出不同的阵列，刻蚀的硅片的阵列的长×宽为10μm×10μm，阵列间距为5μm-30μm，阵列高度为10-30μm；

步骤二：利用聚二甲基硅氧烷对硅片进行赋形，硅橡胶与固化剂的质量比为90-150:10，固化温度为65-100℃，固化后脱模，得到与硅片阵列相反的PDMS模板；

步骤三：利用PDMS模板进行形状记忆环氧树脂微阵列的赋形，使用环氧树脂和固化剂，并按照质量比为0.01～0.017:1的比例配胶，在60-120℃之间固化10-24h，脱模，得到形状记忆环氧树脂微阵列；