[发明专利]一种石墨烯-六方氮化硼异质结构材料的制备方法

权利要求书

1.一种石墨烯-六方氮化硼异质结构材料的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

(1)少层石墨烯的制备：将有机小分子溶于溶剂A得到澄清透明溶液；加入鳞片石墨粉末，搅拌反应8～24h，得到分散液；将所得分散液以3000～5000rpm离心，收集上悬液，过滤所得滤饼在80～100℃真空干燥，得到少层石墨烯；

其中，所述鳞片石墨粉末粒径≤45um；有机小分子与溶剂A固液比为1:(20-30)g/mL；鳞片石墨粉与溶液固液比为1:50g/mL；所述少层石墨烯≤10单原子层；

(2)六方氮化硼纳米片的制备：将有机小分子溶于溶剂A得到澄清透明溶液；加入六方氮化硼粉末，搅拌反应8～24h，得到分散液；将所得分散液以5000～8000rpm离心，收集上悬液，过滤所得滤饼在80～100℃真空干燥，得到少层六方氮化硼纳米片；

其中，所述六方氮化硼粉末粒径≤2um；有机小分子与溶剂A固液比为1:(20-30)g/mL；六方氮化硼粉末与溶液固液比为1:50g/mL；所述少层六方氮化硼纳米片≤10单原子层；

(3)石墨烯-六方氮化硼异质结构材料的制备：将上述少层石墨烯和少层六方氮化硼纳米片分散于溶剂B中得到混合溶液；将所得混合溶液超声处理，再搅拌8-24h后以1000～3000rpm离心，弃去上层液，得到固体沉淀，即为石墨烯-六方氮化硼异质结构材料；

其中，所述少层石墨烯和少层六方氮化硼按质量比为1:(0.25-4)；所述少层石墨烯和少层六方氮化硼纳在混合溶液中浓度为0.1～1mg/mL。

2.如权利要求1所述石墨烯-六方氮化硼异质结构材料的制备方法，其特征在于所述有机小分子为尿素、三聚氰胺、硫脲和双氰胺中的一种。

3.如权利要求1所述石墨烯-六方氮化硼异质结构材料的制备方法，其特征在于所述溶剂A为乙二醇、丙三醇、三乙醇胺中的一种。

4.如权利要求1所述石墨烯-六方氮化硼异质结构材料的制备方法，其特征在于所述溶剂B为异丙醇、N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺中的一种。

5.如权利要求1所述石墨烯-六方氮化硼异质结构材料的制备方法，其特征在于所述的离心时间为0.5h。