[发明专利]三维造型装置、三维造型方法及存储介质有效

专利信息
申请号: 201710804247.2 申请日: 2017-09-07
公开(公告)号: CN107825698B 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 石田方哉;冈本英司;角谷彰彦 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B29C64/112 分类号: B29C64/112;B29C64/153;B28B1/00;B22F3/105;B33Y30/00;B33Y10/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 张永明;玉昌峰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 三维 造型 装置 方法 存储 介质
【说明书】:

本申请提供三维造型装置、三维造型方法及存储介质,可抑制材料流动引起的立体物造型精度下降。三维造型装置层积由具有流动性的材料形成的材料层来成形立体物,执行第一造型处理、第二造型处理和第三造型处理,在所述第一造型处理中,形成向所述材料层的层积方向突出的多个凸部,形成与两个以上所述凸部相邻且比所述凸部向所述层积方向凹陷的凹部,在所述第二造型处理中,在所述凸部上层积所述材料层,并且在所述凹部内形成与层积在所述凸部上的所述材料层分开的所述材料层,在所述第三造型处理中,在所述凹部内的所述材料层上配置所述材料,从而填埋所述凹部。

技术领域

本发明涉及三维造型装置、三维造型方法及存储介质。

背景技术

作为三维造型装置,公开有采用在高度方向依次重叠表示造型对象、即立体物的截面的材料层,从而成形该立体物的方法的装置(例如,下面的专利文献1)。这样的造型技术还被称为增材制造(additive manufacturing)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2015-212042号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

在如上所述的三维造型装置中,在形成构成立体物的材料层时,由于材料具有流动性,有时降低立体物的尺寸精度(造型精度)。本发明的目的在于提供一种通过与现有方法不同的方法,可以改善材料流动带来的立体物造型精度下降的技术。

用于解决技术问题的手段

本发明是为了解决上述技术问题中的至少一个而做出的,可以通过以下方式实现。

[1]根据本发明的第一方式,提供一种三维造型装置。该三维造型装置具有造型部以及控制部。所述造型部通过层积由具有流动性的材料形成的材料层而成形立体物。所述控制部控制所述造型部。所述控制部执行第一造型处理,形成向层积所述材料层的层积方向突出的多个凸部,从而形成比所述凸部向所述层积方向凹陷的凹部。所述控制部执行第二造型处理,在所述凸部上层积所述材料层,并且在所述凹部内形成与层积在所述凸部上的所述材料层分开的所述材料层。所述控制部执行第三造型处理,在所述凹部内的所述材料层上配置所述材料,从而填埋所述凹部。

根据该方式的三维造型装置,抑制配置在凹部的材料流动,并且抑制配置在凸部顶部的材料流向凹部流动,在凸部以及凹部的每一个中限制液体流动的范围。因此,抑制材料层表面的平整度因材料的流动而下降,提高立体物的造型精度。

[2]在上述方式的三维造型装置中,可以是,所述第一造型处理是层积两层以上所述材料层而形成所述凸部的处理,所述第二造型处理是如下处理:在所述凸部的所述材料层与所述凹部内的所述材料层之间产生两层所述材料层量的厚度以上的分开距离的状态下,在所述凸部上和所述凹部内分别层积一层以上的所述材料层。

根据该方式的三维造型装置,可使得层积在凸部上的材料层与形成在凹部内的材料层在层积方向上适当分开,从而进一步抑制材料从凸部向凹部流动。因此,可进一步抑制材料层表面的平整度下降。

[3]在上述方式的三维造型装置中,可以是,所述第一造型处理是如下处理:以所述凸部和所述凹部在垂直于所述层积方向的第一方向和垂直于所述层积方向及所述第一方向的第二方向的各方向上交替排列的方式,形成所述凸部。

根据该方式的三维造型装置,凸部和凹部形成为在沿形成的材料层的表面的方向上分散,所以可提高材料层表面的平滑度。

[4]在上述方式的三维造型装置中,可以是,所述造型部通过去除包含在所述材料中的溶剂的至少一部分而形成所述材料层。根据该方式的三维造型装置,限制去除溶剂之前的材料的流动范围,所以可抑制材料层表面的平整度下降。

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