[发明专利]一种带有药液循环装置的挖沟槽槽体在审
| 申请号： | 201710806283.2 | 申请日： | 2017-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN109473374A | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | 齐风;甄辉;王彦君;孙晨光;徐长坡;陈澄;梁效峰;杨玉聪;王晓捧;王宏宇;徐艳超 | 申请（专利权）人： | 天津环鑫科技发展有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213 | 代理人： | 栾志超 |
| 地址： | 300380 天津市西青区*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 药液槽 循环冷却系统 均匀性 药液循环装置 进液系统 循环泵浦 槽体 刻蚀 冷却 药液槽外部 冷水机组 外部循环 进液口 均匀孔 极差 进口 申请 出口 保证 | ||
1.一种带有药液循环装置的挖沟槽槽体，包括药液槽，其特征在于：所述药液槽底部设有药液槽进液系统(3)，所述药液槽外部设有循环冷却系统(6)，所述循环冷却系统(6)的进口与所述药液槽连接；所述循环冷却系统(6)的出口与循环泵浦(7)连接，所述循环泵浦(7)与所述药液槽进液系统(3)连接；所述循环冷却系统(6)与设置在所述药液槽旁边的冷水机组(4)冷却连接。
2.根据权利要求1所述带有药液循环装置的挖沟槽槽体，其特征在于：所述循环泵浦(7)与所述药液槽进液系统(3)之间设有循环过滤器(5)。
3.根据权利要求1所述带有药液循环装置的挖沟槽槽体，其特征在于：所述循环冷却系统(6)包括一个冷却槽；所述冷却槽与所述药液槽相连；所述冷却槽内均匀设有冷水管路，所述冷水管路的进口和出口均与所述冷水机组(4)相连。
4.根据权利要求1-3任一所述带有药液循环装置的挖沟槽槽体，其特征在于：所述药液槽进液系统(3)的顶部设有均匀的进液孔。
5.根据权利要求4所述带有药液循环装置的挖沟槽槽体，其特征在于：所述冷水机组(4)内盛有水；所述冷水机组(4)内设有对所述水进行冷却的冷却机构。
6.根据权利要求1所述带有药液循环装置的挖沟槽槽体，其特征在于：所述药液槽的四周内壁上设有药液槽冷却系统(2)，所述药液槽冷却系统(2)与所述冷水机组(4)相连。
7.根据权利要求6所述带有药液循环装置的挖沟槽槽体，其特征在于：所述药液槽冷却系统(2)包括若干冷却盘，所述冷却盘由冷却盘管路构成，所述冷却盘管路的入口和出口均与所述冷水机组(4)相连。
8.根据权利要求1-3、5-7任一所述带有药液循环装置的挖沟槽槽体，其特征在于：所述药液槽为上开口的容器，所述药液槽的上方开口处设有排气系统(1)。
9.根据权利要求8所述带有药液循环装置的挖沟槽槽体，其特征在于：所述药液槽与所述循环冷却系统(6)之间的连接管路上设有调节流量的阀门；所述循环冷却系统(6)与所述循环泵浦(7)之间的连接管路上设有调节流量的阀门；所述循环泵浦(7)与所述循环过滤器(5)之间的连接管路上设有调节流量的阀门。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津环鑫科技发展有限公司，未经天津环鑫科技发展有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710806283.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于挖沟槽的硅片旋转装置
- 下一篇：一种利于均匀腐蚀的挖沟槽槽体
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
