[发明专利]一种单斜相BiVO4:Re光催化材料的高压制备方法有效
申请号: | 201710806741.2 | 申请日: | 2017-09-08 |
公开(公告)号: | CN107469807B | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | 程学瑞;王征;朱祥;任宇芬;张焕君 | 申请(专利权)人: | 郑州轻工业学院 |
主分类号: | B01J23/22 | 分类号: | B01J23/22;C02F1/30;C02F101/30;C02F101/34 |
代理公司: | 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 | 代理人: | 时立新 |
地址: | 450002 *** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 单斜 bivo4 re 光催化 材料 高压 制备 方法 | ||
1.一种单斜相BiVO4:Re光催化材料的高压制备方法,其特征在于,具体包括如下步骤:
(1)原料预处理,该方法以四方相锆石结构的BiVO4:Re为原材料,将原材料干燥后备用;
Re为稀土类元素,包括:镧(La)、铈(Ce)、镨(Pr)、钕(Nd)、钷(Pm)、钐(Sm)、铕(Eu)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)、镱(Yb)、镥(Lu),以及钪(Sc)和钇(Y)共17种元素,四方相锆石结构的BiVO4:Re中的Re为上述17种元素中一种或几种任意比例的混合物;
Re的浓度在1~10 mol%;
(2)封装和加压处理,
将步骤(1)中预处理后原材料置于高压合成装置的样品腔内,加压,并恒压保压;
加压至压力为5~10 GPa,加压速度不超过2GPa/h;
(3)降压处理,
在步骤(2)中加压处理完成后,降压至常压;降至室压后,取出样品,得到单斜相BiVO4:Re产物。
2.如权利要求1所述单斜相BiVO4:Re光催化材料的高压制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述四方相锆石结构的BiVO4:Re由水热法制备而成。
3.如权利要求2所述单斜相BiVO4:Re光催化材料的高压制备方法,其特征在于,Re为铕(Eu),Re的浓度为10 mol%。
4.如权利要求3所述单斜相BiVO4:Re光催化材料的高压制备方法,其特征在于,步骤(3)中,降压速度不超过3GPa/h。
5.如权利要求4所述单斜相BiVO4:Re光催化材料的高压制备方法,其特征在于,步骤(2)中,加压至压力为5 GPa,加压速度2GPa/h,恒压保压2小时;步骤(3)中,降压速度为2GPa/h。
6.利用权利要求1~5任一项所述单斜相BiVO4:Re光催化材料的高压制备方法所制备单斜相BiVO4:Re光催化材料。
7.权利要求6所述单斜相BiVO4:Re光催化材料在催化降解苯酚或有机染料中的应用。
8.如权利要求7所述单斜相BiVO4:Re光催化材料在催化降解苯酚或有机染料中的应用,其特征在于,所述有机染料为罗丹明B。
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