[发明专利]耐高温高强韧性氮化硅基透波复合材料及制备方法

权利要求书

1.一种耐高温高强韧性氮化硅基透波复合材料的制备方法，其特征在于：复合材料为多层交替BN/Si₃N₄基体，最内层为BN基体，中间层为交替BN/Si₃N₄基体，最外层为Si₃N₄基体；

所述制备方法的步骤如下：

步骤1、Si₃N₄晶须素坯的制备：将体积分数为20～50％的Si₃N₄晶须和1.5～2.5wt.％的分散剂聚丙烯酸胺溶于去离子水，加入PH值调节剂四甲基氢氧化铵调节浆料pH值为9～11；之后加入4～10wt.％的单体丙烯酰胺AM和0.2～1.0wt.％的交联剂亚甲基双丙烯酰胺MBAM后球磨24～36h，真空除泡10min；之后加入0.2～0.5wt.％的引发剂过硫酸铵APS和0.02～0.1wt.％的催化剂四甲基乙二胺TEMED，搅拌后浇注于模具中，成型制得Si₃N₄晶须素坯；

步骤2：将Si₃N₄晶须素坯在室温自然干燥12～36h，然后置于50～100℃烘箱中烘干；再置于马沸炉中，在400～700℃空烧排胶2～4h，获得Si₃N₄晶须预制体；

步骤3、界面的制备：将Si₃N₄晶须预制体置于沉积炉中，采用CVI法制备BN界面，界面厚度0.8～1.5μm；然后可将含BN界面的Si₃N₄晶须预制体置于高温炉中进行热处理，处理温度1300℃，处理时间2～6h；

步骤4、基体的制备：将步骤3得到含BN界面的Si₃N₄晶须预制体置于沉积炉中，采用CVI法制备多层交替BN/Si₃N₄基体，最内层为BN基体，中间层为交替BN/Si₃N₄基体，最外层为Si₃N₄基体。

2.根据权利要求1所述耐高温高强韧性氮化硅基透波复合材料的制备方法，其特征在于：所述步骤1Si₃N₄晶须预制体采用凝胶注模成型。