[发明专利]一种带有时间门控的多通道硬X射线成像探测器在审
申请号: | 201710815355.X | 申请日: | 2017-09-12 |
公开(公告)号: | CN107402401A | 公开(公告)日: | 2017-11-28 |
发明(设计)人: | 杨靖;单连强;吴玉迟;周维民;于明海;张天奎;袁宗强;毕碧;杨雷;闫永宏;董克攻;王少义;朱斌;谭放;杨月;谷渝秋 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | G01T1/28 | 分类号: | G01T1/28 |
代理公司: | 成都众恒智合专利代理事务所(普通合伙)51239 | 代理人: | 王育信 |
地址: | 621700 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 带有 时间 门控 通道 射线 成像 探测器 | ||
1.一种带有时间门控的多通道硬X射线成像探测器,其特征在于:包括主要由探测器框体(1)、射线滤窗(2)和荧光屏(5)共同围设而成密封的真空腔体(7),均设于所述真空腔体(7)内的多通道硬X射线探测光阴极(3)和微通道板(4),以及脉冲高压电源(6);
所述射线滤窗(2)、所述多通道硬X射线探测光阴极(3)、所述微通道板(4)和所述荧光屏(5)依次平行排列,并且所述射线滤窗(2)和所述荧光屏(5)分别位于所述真空腔体(7)的前端和后端;所述射线滤窗(2)用于接受射线照射时让硬X射线穿过并射入所述真空腔体(7)内,同时屏蔽软X射线及β射线,所述多通道硬X射线探测光阴极(3)用于探测穿过所述射线滤窗(2)进入到所述真空腔体(7)的硬X射线,同时将所探测到的硬X射线信号转换为电子信号输出,所述微通道板(4)用于对来自多通道硬X射线探测光阴极(3)的电子进行增益,所述荧光屏(5)用于将经过微通道板(4)增益后的电子信号转换成可见光信号;
所述脉冲高压电源(6)位于所述真空腔体(7)外,并分别与所述多通道硬X射线探测光阴极(3)、所述微通道板(4)和所述荧光屏(5)电连接,用于为所述多通道硬X射线探测光阴极(3)和所述微通道板(4)提供工作电压,同时,所述脉冲高压电源(6)还在所述多通道硬X射线探测光阴极(3)和所述微通道板(4)之间、以及在所述微通道板(4)和所述荧光屏(5)之间加载电压,所加载电压起引导电子传播、以及增加电子能量从而增强可见光信号的作用。
2.根据权利要求1所述的一种带有时间门控的多通道硬X射线成像探测器,其特征在于:所述真空腔体(7)的真空度高于1×10-2Pa,所述射线滤窗(2)为钛窗或铍窗,并且厚度为0.1mm-1mm。
3.根据权利要求2所述的一种带有时间门控的多通道硬X射线成像探测器,其特征在于:所述多通道硬X射线探测光阴极(3)包括在硬X射线光子照射下与该照射的硬X射线光子发生作用产生初级光电子的阴极基底(31),以及等距陈列于所述阴极基底(31)上的两个以上阴极通道(32),每个所述阴极通道(32)内壁上均设有一层碱金属镀层(33),所有所述阴极通道(32)均为贯穿所述阴极基底(31)正反两面的贯穿性孔道,当产生于所述阴极基底(31)上的初级光电子到达所述阴极通道(32)时将电离该阴极通道(32)内壁上的碱金属镀层(33)从而产生低能二级电子,并且所述二级电子在该阴极通道(32)内经过雪崩放大后在所述多通道硬X射线探测光阴极(3)和所述微通道板(4)之间的电压作用下来到所述所述微通道板(4);所有所述阴极通道(32)的直径相同,为3μm-30μm,所有相邻的所述阴极通道(32)之间的间距相同,为5μm-35μm,并且所有所述阴极通道(32)与所述阴极基底(31)的法线之间的夹角一致,为0.1°-15°。
4.根据权利要求3所述的一种带有时间门控的多通道硬X射线成像探测器,其特征在于:所述阴极基底(31)的成份为Pb、Si和O元素,其中铅元素的质量百分比不低于40%。
5.根据权利要求4所述的一种带有时间门控的多通道硬X射线成像探测器,其特征在于:所述多通道硬X射线探测光阴极(3)的工作增益为5-100,所述阴极基底(31)的厚度为0.5mm-3mm,所述二级电子为能量小于50eV的电子,所述碱金属镀层(33)为金属Na镀层或金属K镀层。
6.根据权利要求5所述的一种带有时间门控的多通道硬X射线成像探测器,其特征在于:所述多通道硬X射线探测光阴极(3)与所述射线滤窗(2)之间的距离为1mm-30mm,所述微通道板(4)和所述多通道硬X射线探测光阴极(3)之间的距离为0.3mm-2mm,所述荧光屏(5)和所述微通道板(4)之间的距离为0.8mm-3mm。
7.根据权利要求6所述的一种带有时间门控的多通道硬X射线成像探测器,其特征在于:所述微通道板(4)的厚度为0.4mm-2mm,并且其对电子的增益为200-10000;所述荧光屏(5)上的荧光粉层位于所述真空腔体(7)内,该荧光粉层的厚度为3μm-8μm,并且该荧光粉层所采用的荧光粉为P11型荧光粉或P46型荧光粉。
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