[发明专利]超景深效果成像方法、装置及电子设备有效
申请号: | 201710818721.7 | 申请日: | 2017-09-12 |
公开(公告)号: | CN107707813B | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 杜琳 | 申请(专利权)人: | 北京小米移动软件有限公司 |
主分类号: | H04N5/232 | 分类号: | H04N5/232;H04N5/335 |
代理公司: | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人: | 林祥 |
地址: | 100085 北京市海淀区清河*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 景深 效果 成像 方法 装置 电子设备 | ||
1.一种超景深效果成像方法,其特征在于,包括:
获取反射电磁波信号,所述反射电磁波信号由图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成;其中,所述图像传感器包括若干成像子区,所述成像子区可在入射光线的照射下发生形变;
根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息,根据所述光线信息获得待摄场景的第一图像;
获取待摄场景的深度信息,根据所述深度信息确定至少两个成像子区各自对应的目标合焦深度位置;
控制所述至少两个成像子区在平行于入射光线方向上朝向各自对应的所述目标合焦深度位置移动,以获得与所述第一图像对应的超景深图像;
所述成像子区包括:
感光层,感应入射光线的照射,并发生形变;
反射层,返回相应的反射电磁波信号,且可发生与所述感光层对应的形变。
2.根据权利要求1所述的超景深效果成像方法,其特征在于,根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息,包括:
对所述反射电磁波信号进行解调,以获得第一信号;
根据所述第一信号恢复出所述入射光线的光线信息。
3.根据权利要求1所述的超景深效果成像方法,其特征在于,根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息,包括:
向监测模型发送所述反射电磁波信号,所述监测模型的训练样本包括预先获得的反射电磁波信号与感光层的形变参数之间的数据对;
接收所述监测模型输出的感光层的形变参数;
根据所述形变参数确定所述入射光线的光线信息。
4.根据权利要求1所述的超景深效果成像方法,其特征在于:
至少两个所述成像子区的形变属性不同;
和/或,至少两个所述成像子区的电磁波信号反射特性不同。
5.根据权利要求1所述的超景深效果成像方法,其特征在于,根据所述目标合焦深度位置调整所述成像子区的分布密度,包括:
为至少一个所述成像子区施加外场;
利用所述外场向所述成像子区施加作用力,以获得与所述第一图像对应的超景深图像。
6.根据权利要求5所述的超景深效果成像方法,其特征在于,所述外场包括:磁场、电场、光场中至少之一。
7.一种超景深效果成像装置,其特征在于,包括:
获取单元,获取反射电磁波信号,所述反射电磁波信号由图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成;其中,所述图像传感器包括若干成像子区,所述成像子区可在入射光线的照射下发生形变;
处理单元,根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息,根据所述光线信息获得待摄场景的第一图像;
确定单元,获取待摄场景的深度信息,根据所述深度信息确定至少两个成像子区各自对应的目标合焦深度位置;
执行单元,控制所述至少两个成像子区在平行于入射光线方向上朝向各自对应的所述目标合焦深度位置移动,以获得与所述第一图像对应的超景深图像;
所述成像子区包括:
感光层,感应入射光线的照射,并发生形变;
反射层,返回相应的反射电磁波信号,且可发生与所述感光层对应的形变。
8.根据权利要求7所述的超景深效果成像装置,其特征在于,所述处理单元包括:
第一处理子单元,对所述反射电磁波信号进行解调,以获得第一信号;
第二处理子单元,根据所述第一信号恢复出所述入射光线的光线信息。
9.根据权利要求7所述的超景深效果成像装置,其特征在于,所述处理单元包括:
发送子单元,向监测模型发送所述反射电磁波信号,所述监测模型的训练样本包括预先获得的反射电磁波信号与感光层的形变参数之间的数据对;
接收子单元,接收所述监测模型输出的感光层的形变参数;
第三处理子单元,根据所述形变参数确定所述入射光线的光线信息。
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