[发明专利]纹理制作方法及基板组件有效

专利信息
申请号: 201710819332.6 申请日: 2017-09-12
公开(公告)号: CN107470779B 公开(公告)日: 2019-11-08
发明(设计)人: 黄星 申请(专利权)人: 珠海市魅族科技有限公司
主分类号: B23K26/36 分类号: B23K26/36;C03C17/32
代理公司: 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 代理人: 尚志峰;汪海屏
地址: 519085 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 纹理 制作方法 组件
【说明书】:

发明提供了一种纹理制作方法及基板组件,其中,纹理制作方法包括:在基板的待加工纹理区域上涂覆有机物,以形成相互叠加的基板和有机物层,有机物层由涂覆在基板上的有机物构成;控制激光以预设规则照射有机物层,以去除被激光照射到的有机物从而在有机物层上形成纹理区域。本发明所提供的纹理制作方法不直接在基板上加工,一方面可确保基板的整体性,保证基板的强度,另一方面,当纹理需要修改时,基板可以返工,而不必直接废弃,避免材料的浪费,从而降低生产成本。此外,针对涂覆在基板上的有机物层进行镭雕,所需的有机物层厚度很小,从而降低了成品整体厚度,避免了采用传统的UV转印技术时成品厚度偏厚的问题。

技术领域

本发明涉及终端产品领域,具体而言,涉及一种纹理制作方法和用该方法制作而成的具有纹理区域的基板组件。

背景技术

现阶段在玻璃表面制作纹理主要采用UV转印技术,该工艺主要包括开模(根据所需纹路制作金属转印模具)、转印(将UV胶水印入转印模具内)、压合(将PC片材/玻璃紧压到转印模具上)、光固(利用光固机对片材、UV胶水和转印模具进行光固)及脱模(将转印好的产品从模具中取出)等过程,从而依靠转印模具中凹槽的高低来实现纹理。

通过上述分析可知,现有纹理制作工艺中工序繁琐,金属转印模具制作难度较高,且图案样式单一,生产成本较高。

发明内容

本发明旨在解决现有技术中存在的技术问题之一。

为此,本发明的一个方面在于,提出一种纹理制作方法。

本发明的另一个方面在于,提供一种用该方法制作而成的具有纹理区域的基板组件。

有鉴于此,根据本发明的第一方面,提供了一种纹理制作方法,包括:在基板的待加工纹理区域上涂覆有机物,以形成相互叠加的基板和有机物层,有机物层由涂覆在基板上的有机物构成;控制激光以预设规则照射有机物层,以去除被激光照射到的有机物从而在有机物层上形成纹理区域。

本发明提供的纹理制作方法,首先在基板的待加工纹理区域涂覆有机物,从而形成相互叠加的基板和有机物层,然后控制激光以预设规则照射有机物层,以去除被激光照射到的有机物,从而在有机物层上形成纹理区域。激光照射在有机物层表面,形成凹槽,从而有机物层与基板之间具有光程差,形成不同的明暗,进而制作出纹理。本发明提供的纹理制作方法不直接在基板上加工,一方面可确保基板的整体性,保证基板的强度,另一方面,当纹理需要修改时,基板可以返工,而不必直接废弃,避免材料的浪费,从而降低生产成本。此外,本发明提供的纹理制作方法针对涂覆在基板上的有机物层进行镭雕,即激光消除,所需的有机物层厚度很小,从而降低了成品整体厚度,避免了采用传统的UV转印技术时成品厚度偏厚的问题。

另外,根据本发明提供的上述技术方案中的纹理制作方法,还可以具有如下附加技术特征:

在上述技术方案中,优选地,基板是透明的,有机物层是透明的,有机物是透明的。

在该技术方案中,通过设置基板为透明的,有机物层是透明的,且有机物也是透明的,一方面保证光线可以从基板背离有机物层的一侧顺利射入,并继续射入有机物层中,有助于借助有机物层上加工出的凹槽形成光程差,进而在基板背离有机物层的一侧产生纹理效果;另一方面,基板及有机物层可视为一体,当激光对有机物层进行去除后,基板及剩余有机物层所形成的纹理仍为透明,则可确保后续的着色处理后的玻璃纹理各处颜色均匀一致。

在上述任一技术方案中,优选地,在基板的待加工纹理区域上涂覆有机物具体执行为:在基板的待加工纹理区域上涂布或喷涂或印刷有机物。

在该技术方案中,采用涂布或喷涂或印刷的方式将有机物涂覆在基板上,丰富了有机物层的形成方式,且保证了有机物层在基板上均匀、平整分布,进而使成品成色均匀,提高了工艺质量。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于珠海市魅族科技有限公司,未经珠海市魅族科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710819332.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top