[发明专利]原子力显微镜基底功能化修饰的固定装置有效

专利信息
申请号: 201710824399.9 申请日: 2017-09-13
公开(公告)号: CN107765038B 公开(公告)日: 2020-04-17
发明(设计)人: 钟建;时翠萍;颜娟;盛洁 申请(专利权)人: 上海海洋大学
主分类号: G01Q60/42 分类号: G01Q60/42
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201306 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 原子 显微镜 基底 功能 修饰 固定 装置
【说明书】:

本发明提供一种原子力显微镜基底功能化修饰的固定装置,由凹槽型机构、盖子机构和螺丝螺帽组成。凹槽型机构是在基板上表面有串联式凹槽,串联式凹槽下表面有基底凹槽和圆形通孔,另外,基板的底面具有六边形孔。盖子机构由盖板和把手组成。原子力显微镜基底放置到基底凹槽后,将盖子结构的盖板与串联式凹槽的长方体部分密合,再通过螺丝螺帽固定,从而将基底固定好并留出基底功能化修饰所需要的反应空间。本发明制作简单,可以使原子力显微镜基底功能化修饰过程操作简单、方便,不用担心基底在过程中损坏和污染,且所需功能化修饰液体较少,符合昂贵生物分子研究需求。

技术领域

本发明涉及样品加工处理的固定设备,具体涉及一种原子力显微镜基底功能化修饰的固定装置。

背景技术

原子力显微镜已经被广泛用来分析生命科学分子在单分子水平的力学行为。此类研究的实验过程分为三步,包括原子力显微镜基底和基底生物分子功能化修饰、AFM单分子测试、力谱数据分析等。其中原子力显微镜基底功能化修饰是决定单分子测试实验是否成功的先决条件,科学家们通常致力于开发各种各样的基底修饰策略,如针对金基底或者硅基底设计不同的策略来修饰上蛋白质分子,基底表面修饰不同的识别高分子,基底表面修饰DNA等。此类研究极大的推动了原子力显微镜单分子水平研究的应用。

由于原子力显微镜所以基底较小(如1cm正方形,0.1cm高度),容易在功能化修饰过程中由于基底没有固定而容易碰到壁面损坏和污染,当前功能化修饰过程主要是将基底放在玻璃瓶中或者疏水干净基底上进行,容易在清洗过程中基底翻转而导致基底表面破坏和污染,且前者所需液体量较大(>1mL级别),不能满足昂贵生物分子修饰的需求(数10μL到数100μL)。因此,有必要设计一种原子力显微镜基底功能化修饰的固定装置,可以固定基底、生物分子修饰液体仅需数10μL到数100μL,从而使操作简单、降低基底损坏和污染的风险、且满足昂贵生物分子修饰的要求。

发明内容

针对现有技术中的缺陷,本发明提供一种简易的原子力显微镜基底功能化修饰的固定装置。

一种原子力显微镜基底功能化修饰的固定装置,其特征在于:包括凹槽型机构(1)、盖子机构(2)和螺丝螺帽(3)。

进一步地,凹槽型机构(1)是在基板(11)上表面有串联式凹槽(12),串联式凹槽(12)下表面有原子力显微镜基底凹槽(13)和圆形通孔(14),另外,基板(11)的底面具有六边形孔(15),其中:

串联式凹槽(12)为两个长方体凹槽中间有多个平行的连通凹槽相连,长方体凹槽长度为1-20cm,宽度为1-8cm,深度为0.3-1cm,连通凹槽的数量可以根据需要而加工,串联式凹槽(12)的连通凹槽部分处有长方形凹槽,尺寸略大于原子力显微镜基底的尺寸,长度为0.4-1.5cm,宽度为0.4-1.5cm,深度为0.1-1cm,长方体凹槽的两端分别位于串联式凹槽(12)的两个长方体凹槽内,圆形通孔(14)和六边形孔(15)同轴。

进一步地,盖子机构(2)由盖板(21)和把手(23)组成,盖板(21)可以与串联式凹槽(12)的长方体凹槽部分密合,长度为1-20cm,宽度为1-8cm,深度为0.3-1cm,盖板(21)上有圆形通孔(22),圆形通孔(22)与凹槽型机构(1)的圆形通孔(14)直径相等,且盖板(21)与串联式凹槽(12)的长方体凹槽部分密合后圆形通孔(22)和(14)同轴。

进一步地,螺丝螺帽(3)由螺丝(31)和六边形螺帽(32)组成,六边形螺帽(32)可以紧密嵌合到凹槽型机构(1)的六边形孔(15)内,且不会突出于凹槽型机构(1)底面,螺丝(31)可以穿过圆形通孔(22)和圆形通孔(14)后与嵌合在六边形孔(15)内的六边形螺帽(32)旋配,且不会突出于凹槽型机构(1)底面。

进一步地,凹槽型机构(1)和盖子机构(2)由疏水性材料制作而成,螺丝螺帽对可以由金属或者硬物质材料制作而成。

本发明专利的工作原理如下:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海海洋大学,未经上海海洋大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710824399.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top